Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Atlas #57163 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Atlas ist eine Photoresist-Ausrüstung der nächsten Generation, die entwickelt wurde, um nanoskalige Muster auf Halbleiterscheiben zu erstellen. Es bietet einen umfassenden Funktionsumfang für die Prozesssteuerung mit Funktionen für Nachbild- und Vorverarbeitungsaktivitäten. Das System ist mit einem High-End-Fotobildwerkzeug ausgestattet, das der Photolackschicht Licht aussetzt, um Muster auf der Halbleiterscheibe zu erzeugen. Es funktioniert bei Wellenlängen zwischen 360 nm und 800 nm und kann an die Eigenschaften verschiedener Resists und Fotoprozesse angepasst werden. Das Fotobildwerkzeug ist in der Lage, unter 0,2 μ m Auflösung zu erreichen. Die Einheit enthält auch eine Waferstufe, die eine aktive Stabilisierung aufweist, ein Schlüsselmerkmal, um die gewünschte nanoskalige Genauigkeit zu erreichen. Die Waferstufe unterstützt eine Reihe von Wafergrößen und -dicken und ist in der Lage, schnelle iterative Prozesse wie Lasermaskenschreiben. FSI Atlas ist mit einem Hochgeschwindigkeitsroboter ausgestattet, der Prozessschritte bei hohem Durchsatz durchführen kann. Es enthält Mikroverarbeitungsköpfe, mit denen das Muster auf dem Wafer präzise verändert werden kann. Es verfügt auch über eine High-End-Resistmanagement-Fähigkeit, die eine saubere und stabile Entwicklung der Resistschicht gewährleistet. Dies ermöglicht auch die Fernüberwachung von Prozessparametern, um eine schnelle Lösung von Prozessproblemen zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine hocheffiziente chemische Managementtechnologie, mit der die Beschichtung und Entwicklung des Photolacks präzise gesteuert werden kann. Dieses chemische Management-Tool hilft, die Anzahl der defekten Späne zu reduzieren. Darüber hinaus ist das Asset in ein Fertigungsmodell integriert, mit dem der gesamte Resist-Prozess langfristig überwacht werden kann. Insgesamt ist TEL Atlas eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die für die hochpräzise nanoskalige Herstellung von Halbleiterscheiben entwickelt wurde. Es bietet leistungsstarke Funktionalitäten sowohl für Pre-Processing als auch für Post-Imaging-Prozesse, so dass Benutzer Muster sicher und zuverlässig erstellen und modifizieren können.