Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON / DESPATCH CT200 #9355259 zu verkaufen

FSI / TEL / TOKYO ELECTRON / DESPATCH CT200
ID: 9355259
System.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON/DESPATCH CT200 ist eine hochleistungsfähige, präzisionstechnische Photoresistausrüstung. Dieses System wurde entwickelt, um die fortschrittlichen photolithographischen Anforderungen verschiedener Halbleitermärkte zu erfüllen und bietet eine hochpräzise chemische Verarbeitungsplattform für die Herstellung selbst der anspruchsvollsten Halbleiterbauelemente. FSI CT200 verwendet eine Vielzahl von proprietären Technologien, um Vakuum-Fan-In oder Spin-On-Photoresist-Muster zu erzeugen. Dieses Gerät kombiniert ein kontaktloses Direct-Write-Verfahren mit einer Mikro-Fertigungstechnologie, die es dem Anwender ermöglicht, komplexe und äußerst detaillierte Funktionen auch auf Nanometerebene zu erstellen. Die Maschine verfügt über ein hochentwickeltes Robotik-Steuerungswerkzeug, das alle Prozesskomponenten leitet, zusammen mit einer Vielzahl von Softwareeinstellungen, die auf verschiedene Anwendungen zugeschnitten werden können. TELEFON, auf dem CT200 einen hochauflösenden Bildscanner und einen Hochleistungsmusterbewegungsvermögenswert verwendet, um das ultragenaue Musterschreiben zu ermöglichen, widersetzt sich an einer maximalen Entschlossenheit 10um. Benutzerprogrammierbare Fokus- und Belichtungseinstellungen können an die spezifischen Anforderungen für jede Anwendung angepasst werden. Das Modell ist auch in der Lage, kontinuierliche oder segmentierte Muster zu drucken. CT200 enthält einen Vakuumrahmer zur Vorbehandlung von Substraten und verwaltet die Platzierungs- und Ausrichtungsprozesse. Es kann bis zu 4 "Substrate auf einmal mit einer optischen Tiefe von 1,5 verarbeiten. Das Gerät ermöglicht eine Standardbelichtungszeit von 20 Millisekunden und kann bis zu 2.000 Bilder pro Stunde drucken. DESPATCH CT200 wurde entwickelt, um die hohen Anforderungen einer Vielzahl von Halbleiterproduktionsprozessen zu erfüllen. Die überlegene Leistung und präzise Steuerung macht dieses System zu einer ausgezeichneten Wahl für komplexe Photolithographie-Anwendungen.
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