Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Excalibur #293642294 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Excalibur Photoresist ist eine hochleistungsfähige automatisierte Photolithographie-Lösung, die entwickelt wurde, um die Herausforderungen der Sub-100nm-Herstellung mit Photolithographie anzugehen. Es wurde entwickelt, um Präzision, hohen Durchsatz und kostengünstige Verarbeitung zu liefern und an eine Vielzahl komplexer Anwendungen wie WLCSP, photonische WaveGuide, SiGN PV-Zellmuster und MEMS-Prozesse angepasst. FSI Excalibur Photoresist-System basiert auf einer proprietären Lithographie-Technologie von FSI entwickelt, mit einer patentierten fein abgestimmten Foto-Resist-Einheit für komplizierte Muster. Die auf einer modularen Plattform aufgebaute TEL Excalibur-Maschine wurde entwickelt, um eine hohe Genauigkeit, Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit zu erreichen. Das Tool verwendet eine Hochleistungslichtquelle (HPLS), die es dem Asset ermöglicht, Licht auf Substrate mit bis zu 25 - 100 nm Genauigkeit zu fokussieren, was schnellere und genauere Ergebnisse ermöglicht. Die Lichtquelle ist mehrwellig und ermöglicht es Benutzern, zwischen verschiedenen Wellenlängenbändern zu wechseln, um optimale Muster zu erzielen. Das Modell verwendet auch eine fortschrittliche CCD-Kamera, die sich schnell bewegende Ziele erkennen und analysieren kann und in der Lage ist, Partikel und Kugeln mit hoher Genauigkeit zu verfolgen. Dies ermöglicht Auflösung und Genauigkeit bis zu 20 Nanometer bei einem effizienten Durchsatz von bis zu 200 Wafern pro Stunde. TOKYO ELECTRON Excalibur Photoresist-Geräte verwenden eine hocheffiziente Reinigungsstation, die speziell entwickelt wurde, um unerwünschte Partikel und Verunreinigungen aus den Wafern zu entfernen. Dieser Reinigungsprozess ist entscheidend für den Erfolg des Photolithographieverfahrens und der Endprodukte. Das System ist für vielseitige Anwendungen konzipiert und seine modulare Architektur ermöglicht Upgrades und Erweiterungen. Es kommt mit einer Reihe von anspruchsvollen Software-Tools und Funktionen wie Profiloptimierungstools, automatische Vor/Nachoptimierung, Ausrichtungsfunktionen, Overlay- und Resttreue-Analysetools und Fehlererkennungsalgorithmen, die helfen können, die Leistung zu optimieren. Excalibur Photoresist Unit wurde für die hochpräzise Photolithographie und erweiterte Mikrostrukturierung einer breiten Palette von Materialien aus leitfähigen Polymeren, Glas, III-V-Verbindungen und Keramik verwendet. Es kann auch für maskenlose Lithographie verwendet werden, die Allzweckmanipulationen auf Substratebene ermöglicht. Diese Maschine ist für ihre hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit bekannt und in der Lage, eine breite Palette von Substraten und Produktionsvolumen zu handhaben.