Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON HELIOS 52 #293640333 zu verkaufen

ID: 293640333
Wafergröße: 6"
DI water heater, 6".
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON HELIOS 52 ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Lithographie in der Halbleiterindustrie. Es wird zur Entwicklung und Belichtung von Photolackmaterialien und Isolierfilmen verwendet. Die Maschine bietet genaue und zuverlässige Bildgebung und Widerstände, die für jede zeitgemäße Konstruktionsanforderung erforderlich sind. FSI HELIOS 52 verfügt über eine leistungsstarke Mehrfachbilderzeugungsstufe, die eine stabile optische Leistung gewährleistet und eine breite Palette von Bildgebungsgenauigkeiten für einen verbesserten Herstellungsprozess bietet. Das System besteht aus zwei Motoren, einem Schrittmotor und einem Galvanometerspiegel. Der Präzisionsschrittmotor steuert feine Inline-Verschiebungen, während das Galvanometer schnelle In-Plane-Bewegungen steuert. Der Optikbereich besteht aus einer 5-fachen Objektivlinse, um eine hochauflösende Abbildung von bis zu 1,15 Mikron über einen 1-Zoll-Wafer zu erreichen. Ein dedizierter Spiegelkäfig mit geringer Verzerrung kann verwendet werden, um eine höhere Genauigkeit zu erreichen. TEL HELIOS 52 verfügt zudem über eine temperaturgeregelte Feuchtekammer, die darauf ausgelegt ist, die Resisttemperatur, Feuchtigkeit und Belichtungsbedingungen auf einem konstanten Niveau zu halten, was insbesondere für die Photolithographie von Bedeutung ist. Es enthält auch einen Scanner-Positionsdetektor zur feineren Positionierung und Ausrichtung der Abbildungsebene. Die Maschine verwendet einen trockenen Pol, 2-Bestandteile-Chemikalienprozesseinheit, um das photowiderstehen von einer Spülung des photowiderstehen Materials gefolgte Material zu ätzen, um in einer Prozession gehende Rückstände zu entfernen. Diese Maschine ist speziell für Prozesse konzipiert, die eine hohe Überlagerungsgenauigkeit und kurze Durchlaufzeiten erfordern. Es ist auch mit einer automatisierten Resist-Prozesskassette, einer Trockenfilm-Entwicklerkassette und einer Belichtungskassette ausgestattet, um Ausfallzeiten und Ladezeiten zu reduzieren. HELIOS 52 ist in der Lage, verschiedene Muster mit hohem Durchsatz, Genauigkeit und Ausbeute durch kontinuierliche Kontrolle der Filmgleichförmigkeit zuverlässig zu belichten. Die hochmoderne Photolithographie-Maschine ist für Halbleiterindustrie konzipiert und eignet sich für die Spitzenproduktion von Bauelementen. Seine Eigenschaften machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für diejenigen, die ein effektives, zuverlässiges und präzises Bildgebungswerkzeug suchen.
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