Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K100 #9099908 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K100 ist eine von FSI, Ltd. entwickelte Photoresist-Ausrüstung, die fortschrittliche Belichtungs- und Bildgebungstechnologien verwendet, um eine breite Palette von Präzisions-Photolithographie-Prozessen durchzuführen. Das System ist für den Einsatz in IC-Fertigungsanwendungen konzipiert, einschließlich fortschrittlicher 3D-Verbindungen, mikroelektromechanischer Systeme (MEMS), Fotobildgebung und anderer hochpräziser Aufgaben. FSI K100 Einheit besteht aus drei Hauptkomponenten: der Belichtungsmaschine, den Belichtungsreglern und dem bildgebenden Werkzeug. Der Expositionsbestand wird verwendet, um exakte Mengen an superfeiner Expositionsstrahlung an bestimmte Bereiche auf dem Substrat zu liefern. Das Belichtungsmodell ist auf einem Mikrometer-Manipulator montiert und kann sehr präzise und präzise die Belichtungsparameter steuern. Darüber hinaus verfügt die Belichtungseinrichtung über ein großes Sichtfeld (FOV), das an die Substratform anpassbar ist und eine extrem präzise Bildregistrierung ermöglicht. Die Belichtungsregler bestehen aus einer Reihe fortgeschrittener Bildverarbeitungsalgorithmen, die zur Steuerung des Belichtungsprozesses verwendet werden. Diese Algorithmen wurden entwickelt, um die Belichtungseinstellungen zu optimieren, um qualitativ hochwertige Ergebnisse bei minimaler Wattnutzung zu gewährleisten. Darüber hinaus sind die Belichtungsregler so konzipiert, dass sie im Einklang mit dem bildgebenden System arbeiten, um die Genauigkeit und den schnelleren Durchsatz zu gewährleisten. Die Bildaufnahmeeinheit wurde entwickelt, um ultrahochauflösende Bilder mit Pixelansprechzeiten in Nanosekunden zu erkennen. Dadurch können sehr feine Merkmale bei minimaler Bildverzerrung erkannt werden. Darüber hinaus umfasst die bildgebende Maschine ein sauberes bildgebendes Verfahren, das verwendet wird, um Bildartefakte von überlappenden Merkmalen zu vermeiden. Das Photoresist-Tool von TEL K100 wurde entwickelt, um hochgenaue und reproduzierbare Lithographieverfahren bereitzustellen. Dazu gehört auch die Ausrichtung und Bildverarbeitung der Bilder, die hochauflösende Bilder mit den für eine effiziente und wirtschaftliche Fertigung notwendigen Geschwindigkeiten erzeugt. Darüber hinaus ist K100 Asset in der Lage, mit einer Vielzahl von Substraten zu arbeiten, einschließlich Polyimid, Silizium und Glas, so dass es sehr vielseitig und für viele verschiedene Anwendungen geeignet ist. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON K100 Photoresist-Modell eine sehr fortschrittliche Ausrüstung für die Lithographie und seine fortschrittlichen Komponenten ermöglichen eine präzise und genaue Kontrolle der Belichtungsparameter bei gleichzeitiger Minimierung des Energieverbrauchs. Das System ist gut für den Einsatz in IC-Fertigungsanwendungen konzipiert und seine fortschrittliche Bildgebungseinheit ermöglicht die Erkennung ultrahochauflösender Bilder mit minimaler Bildverzerrung. FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K100 Photoresist Maschine liefert hervorragende Ergebnisse und ist gut für verschiedene Arten von Substratmaterialien geeignet.