Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K131 #9244159 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K131 Photoresist Equipment ist ein kompaktes, einfach zu bedienendes Halbleiterprobenverarbeitungssystem von FSI International, Inc. und TEL Limited (TOKYO ELECTRON). Das Gerät wurde entwickelt, um den Tausenden von kleinen MEMS, GaAs und Halbleiterherstellern in der Halbleiterindustrie professionelle Nassätzfunktionen zur Verfügung zu stellen. Diese Maschine umfasst einen integrierten Spender im Fördertyp zum Aufbringen von Photolacklösungen auf Wafer, eine integrierte Präzisionsbewegungssteuerung zum Ätzen in exakten Tiefen und integrierte Reinigungsfunktionen zum Entfernen von Photolackresten. Es bietet auch hervorragenden Durchsatz und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit, ein wichtiges Merkmal für die Halbleiterherstellung. FSI K131 Photoresist Tool verwendet branchenübliche PCB-Verarbeitungstechniken wie Spin Coating, Photolithographie, Photoresist Stripping und Dip-Coating, um gewünschte Ätzergebnisse auf Wafern zu erzielen. Es verwendet eine herkömmliche patronenbasierte Liefervorrichtung, um vorbestimmte Mengen von Photolacklösungen an den Wafer abzugeben. Mit Spin Coating kann der Photolack in präzisen Einstellungen aufgebracht werden, um eine maximale Gleichmäßigkeit zu erreichen. Mit Hilfe der Photolithographie wird dann der Photolack auf den Wafer gemustert, so dass er in das gewünschte Design geätzt werden kann. Mit einem integrierten Präzisionsbewegungssteuermodell kann TEL K131 Photoresist Equipment präzise Ätztiefen auf dem Wafer erzielen. Diese fortschrittliche Ätzkontrolltechnologie gewährleistet höchste Genauigkeit, Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit beim Ätzen komplizierter Funktionen. Das System verfügt auch über fortschrittliche Reinigungsfunktionen mit Hoch- und Niederdrucksprühgeräten, wodurch sichergestellt ist, dass alle Rückstände aus dem Photoresist entfernt werden. TOKYO ELECTRON K131 Photoresist Unit liefert hohe Leistung und hervorragende Erträge in einem kompakten, kostengünstigen Paket. Dank seiner intuitiven Bedienung und der benutzerfreundlichen Schnittstelle ist es ideal für kleine bis mittlere Halbleiterhersteller, die Nassätzfunktionen auf professionellem Niveau zu einem erschwinglichen Preis benötigen. Die Maschine bietet einen hervorragenden Durchsatz, der bis zu drei Wafer pro Minute mit wiederholbaren, gleichmäßigen Ergebnissen liefert. K131 Photoresist Tool ist ein wesentliches Werkzeug für jeden kleinen Halbleiterhersteller, der die Qualität und Produktivität seines Musterprozesses verbessern möchte.