Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K150 #293624501 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K150 Photoresist Equipment ist ein automatisiertes Gerät für hochpräzise Photolithographie-Prozesse in der Halbleiterproduktion. Es wird verwendet, um verschiedene Schichten dünner Substrate in ultrafeinen Details physikalisch zu strukturieren, mit einer Vielzahl von Materialien wie Quarz, Silizium und Polyimid. Das System verwendet 4 optische Stufen, eine Präzisionsabtaststufe und eine Hochleistungs-Lasereinheit, um ein exaktes Merkmal genau und präzise zu gestalten. Die erste optische Stufe ist mit einem Canon 20x Mikroskop und einer 5-Kamera- Fotokartenmaschine zur präzisen Überwachung und Messung ausgestattet. Diese Stufe bietet auch Ausrichtungsprüfungen für alle bildgebenden Komponenten. Die zweite optische Stufe, die auf einem Roboterarm montiert ist, enthält ein Zoomobjektiv zusammen mit einem Musterspiegel, um eine genaue Bildgebung zu gewährleisten. Auf der dritten optischen Stufe ist eine Objektivlinse mit langer Brennweite angebracht, die eine vergrößerte Sicht auf das Substrat ermöglicht und selbst kleinste Details aufzeichnet. Schließlich beherbergt die vierte optische Stufe eine Hochleistungs-UV-Lichtquelle, eine gegossene Grundplatte zur Unterstützung des Substrats und eine Vielzahl von Positionierern und Aktoren, um den Laserstrahl genau zu lenken. Das Steuerungstool von FSI K150 Photoresist Asset ist für den automatisierten Bildgebungsprozess verantwortlich und umfasst ein eingebautes Multimedia-Untermodell und fortschrittliche Sensoren für erweiterte Inspektion und Messung. Das Gerät ist auch in der Lage, mit einer Vielzahl von Kommunikationsprotokollen zu arbeiten, so dass eine einfache Integration mit externen Geräten. Eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche ermöglicht es dem Benutzer, das System zu konfigurieren, Parameter und Spezifikationen einzurichten und die Leistung des Geräts zu überwachen. TEL K150 Photoresist Machine beinhaltet auch eine Selbstdiagnose-Routine, die Fehlfunktionen erkennen und melden kann und bei Bedarf sofortige Korrekturmaßnahmen ermöglicht. Das Werkzeug ist in der Lage, Merkmale im Bereich von 0,1 bis 1 Mikron in der Größe, mit einer Genauigkeit von +/- 5 nm und Auflösung von 1-10 nm zu mustern. Seine hochwertigen Komponenten und Mechanismen gewährleisten eine langfristige Haltbarkeit und einen konstanten Betrieb. K150 die hochwertigen bildgebenden Werkzeuge von Photoresist Asset, die präzisen und kontrollierten Prozesse und die überlegene Automatisierung machen es zu einer idealen Lösung für fortschrittliche und anspruchsvolle Fotolackaufträge.