Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Lithius Pro V-i #9358787 zu verkaufen

ID: 9358787
Wafergröße: 12"
Clean track system, 12", parts system Process: Immersion Cup module Cassette stage block Chemical cabinet HP and ADH Plates Interface: Resist buffer Spin driver (2) Blocks.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Lithius Pro V-i ist eine Photoresist-Ausrüstung für hochpräzise Musteranwendungen. Das System ermöglicht das Prägen von Mikrostrukturen auf ein Substrat mit Submikron-Auflösung. Die integrierte Einheit umfasst eine plasmaverbesserte chemische Aufdampfkammer (PECVD), einen Spin-Coater und einen Belichtungskopf zur Optimierung von Prozessschritten für Produktanwendungen. Die PECVD-Kammer dient zur Abscheidung photolithographischer Photolackbeschichtungen auf Substraten wie Siliziumscheiben, Saphirscheiben und keramischen Substraten. Der Spin-Coater dient zur Optimierung der gleichmäßigen Dispersion der Resistschicht auf dem Substrat, um eine glatte und gleichmäßige Beschichtung zu gewährleisten. Der Belichtungskopf verwendet sowohl „Step-and-Repeat“ als auch „Step-and-Scan“ -Funktionen, um hochauflösende (weniger als 1 Mikron) Photomasken-Muster auf das beschichtete Substrat zu liefern. Diese hochsensible Maschine ist in der Lage, Funktionen kleiner als 0,25 Mikron aufzulösen, während Gleichmäßigkeit über weite Bereiche gewährleistet ist. Neben dem Spin-Coater und dem Belichtungskopf umfasst das Tool auch eine automatisierte Spur- und Werkzeuganlage, die schnelle Umstellungen auf der Prozesslinie ermöglicht. Die in das Modell integrierte Software bietet Benutzern Zugriff auf Bilddaten und erweiterte Mustererkennungsfunktionen. Diese Funktion ermöglicht es dem Gerät, Photolackmuster auf Photomasken zu identifizieren und genau auf das beschichtete Substrat zu übertragen. Das Photoresist-System FSI Lithius Pro V-i ist einfach einzurichten und zu bedienen, mit branchenführenden Funktionen für Design, Sicherheit und Prozessautomatisierung. Alle Komponenten des Geräts sind von höchster Qualität und gewährleisten zuverlässige und konsistente Ergebnisse. Seine Präzision, Geschwindigkeit, Skalierbarkeit, Flexibilität und geringen Kosten machen es zu einer idealen Maschine für die anspruchsvollsten Photolithographie-Anwendungen.
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