Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #293595917 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die Herstellung hochpräziser Muster auf Halbleiter-, Mikroelektronik- und anderen Substraten entwickelt wurde. Der MP ist eine einplattige, durchsatzstarke, vollautomatisierte Lösung, die die Herstellung von Feinlinien- und 3D-Fotolackmustern mit beispielloser Wiederholbarkeit und Genauigkeit ermöglicht. Das System besteht aus einer Vakuumlast-Schleusenkammer, einer programmierbaren Ausrichteinheit und einem programmierbaren Spin-Beschichtungsmechanismus. Die Maschine verfügt über ein digitales Bildgebungswerkzeug für hochpräzise Registrierungen und eine LED-basierte Lichtquelle zur Belichtung. Die Vakuumlast-Schleusenkammer sorgt für eine saubere Umgebung und ermöglicht einen Werkzeugwechsel ohne Luftdruck. Das programmierbare Ausrichtungsmodell ermöglicht die automatische Platzierung und Ausrichtung der Substrate in der Prozesskammer. Der Spin-Beschichtungsmechanismus ist zum Aufbringen von Photolackfilmen mit gleichbleibender Dicke und homogenen Filmen von der Mitte auf den Rand des Substrats ausgelegt. Das digitale Bildgebungsgerät verfügt über eine hochpräzise Registrierung zur automatischen Messung, Ausrichtung und Positionierung von Substraten und Resists. Es ermöglicht die Registrierungsgenauigkeit von weniger als 0.5um. Die LED-Lichtquelle trennt die Hintergrundbeleuchtung und die Schwarzbeleuchtung mit unterschiedlichen Winkeln und Belichtungszeiten, wodurch die Belichtungszeit flexibler wird und eine wiederholte Belichtung mit größerer Präzision und Genauigkeit ermöglicht wird. Der MP ist flexibel genug, um eine Vielzahl von Photolackmaterialien aufzunehmen und ist für die Positionierung von Substraten unterschiedlicher Dicke ausgelegt. Das System soll Staub, Verunreinigungen und Partikel pro Fläche reduzieren und kann in einer Reihe von Photolackprozessen wie negativen und additiven Prozessen eingesetzt werden. Kurz gesagt, FSI Mercury MP ist eine vielseitige Photoresist-Einheit, die zuverlässige Produktion mit hoher Wiederholbarkeit, Präzision und Genauigkeit liefert. Es ist eine Single-Platform-Lösung mit Hochdurchsatzfunktionen, die maximale Vielseitigkeit und Flexibilität bietet.