Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9090432 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP Photoresist Equipment ist ein Hochgeschwindigkeits-System (PVD), das zur Abscheidung von Photolackschichten auf der Oberfläche von Halbleiterscheiben oder anderen Materialien bei der Herstellung von integrierten Schaltungen verwendet wird. Dieses Gerät umfasst einen Mercuryｮ MP PVD-Prozessor und einen Mikroprozessor-basierten Controller, der eine schnelle und präzise Abscheidung des Photolacks ermöglicht. Die Maschine wird mit einem speziellen Hochgeschwindigkeitsatomisierungsprozess und einer speziellen Gasatomisierungsschnauze ausgestattet, die einen äußerst feinen Spray des photowiderstehen Materials erzeugen kann. Die Düse ist in der Lage, die Größe der zerstäubten Partikel zu steuern und eine gleichmäßige Korngrößenverteilung zu gewährleisten. Auch dieses Werkzeug verfügt über schnelle Tuning-Zeit und verbesserte Ablagerung Gleichmäßigkeit, so dass es ideal für hohe Serienproduktion. FSI Mercury MP Photoresist Asset bietet auch Flexibilität und Verbesserung der Prozesskontrolle, indem es mehrere Rezepte für verschiedene Prozessanwendungen ermöglicht und eine Anpassung der Parameter ermöglicht, um die Abscheidungsschicht entsprechend den spezifischen Anforderungen zu optimieren. Das Modell ist in der Lage, ultradünne Schichten aus hochwertigem Photolack zu produzieren und kann Material in unterschiedlichen Dicken mit guter Gleichmäßigkeit abscheiden. Diese Ausrüstung kann schnelle Abscheidungsraten von bis zu 1 Mikron/Sekunde erreichen, was viel schneller ist als herkömmliche Resistprozesse. TEL Mercury MP Photoresist-System kann mit anderen Prozessen wie Ätzen und Reinigen integriert werden, so dass eine schnelle und effiziente Produktion von Halbleiterbauelementen in hoher Serie möglich ist. Diese Einheit verfügt über eine integrierte Vakuummaschine, die Hochvakuumbedingungen bereitstellen kann, die für die optimale Abscheidung von Photolack erforderlich sind. Dieses Werkzeug enthält auch eine spezielle Düse, deren Konstruktion eine optimale Partikelgröße und Gleichmäßigkeit während des gesamten Abscheideprozesses gewährleistet. Darüber hinaus bietet es eine automatische Prozesssteuerung, die nach Kundenwunsch angepasst werden kann. Darüber hinaus ist TOKYO ELECTRON Mercury MP Photoresist Model sehr zuverlässig und bietet einen langen Lebenszyklus. Diese Ausrüstung eignet sich sowohl für die Chargen- als auch für die Inline-Verarbeitung. Es bietet auch außergewöhnlichen Widerstand für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Bildumkehr und Bildverstärkung. Darüber hinaus ist dieses System einfach zu bedienen und kann in einer Vielzahl von Systemen wie Sputtern, Sprühpyrolyse und chemischer Dampfabscheidung eingesetzt werden. Abschließend ist Mercury MP Photoresist eine gute Wahl für die Herstellung von Halbleiterbauelementen aufgrund seiner schnellen Abscheideraten und der verbesserten Prozesssteuerung.