Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9102507 zu verkaufen

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ID: 9102507
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1992
Spray processor, 6" Upgradeable to 8" Process: Preclean Chemicals: H2SO4, H2O2, NH4OH, HCl, HF, DI-H2O, N2 Software Rev.: 11.000 220V, 20A, 1 phase, 50/60Hz 1992 vintage.
FSI MERCURY MP ist eine führende Photolackausrüstung, die von Halbleiterherstellern bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet wird. Photoresist ist eine undurchsichtige Substanz, die auf ein Halbleitersubstrat aufgebracht wird, das als Schutzschicht wirkt, um die Menge an Ionen und anderen Partikeln, die in das Substrat gelangen, zu verhindern oder zu reduzieren. Beim Aufbringen eines ultravioletten Lichtstrahls auf den Photoresist tritt eine chemische Veränderung in den im Photoresist enthaltenen Molekülen auf, wodurch diese instabil und leicht vom Substrat entfernt werden. Dieses Verfahren ist als Photolithographie bekannt und wird bei der Herstellung integrierter Schaltungen eingesetzt. Die Photolithographie ist ein Schritt im Halbleiterherstellungsprozess, bei dem Muster der Schaltung auf das Halbleitersubstrat übertragen werden. Bei diesem Verfahren wird üblicherweise eine lichtempfindliche Lösung mit anschließender UV-Strahlenbelastung aufgebracht. MERCURY MP ist ein hocheffizientes Photolacksystem für den Einsatz in Photolithographieverfahren. Dieses Gerät verfügt über ein leistungsstarkes, elektrooptisches Modul, das eine hohe UV-Leistung und einen hohen UV-Belichtungsbereich mit einer langen Lebensdauer von über 10.000 Stunden bietet. Das fortschrittliche Stepper-Control-Modul bietet zudem hohe Genauigkeit und schnelle Reaktionszeiten. FSI MERCURY MP Photoresist Maschine produziert hochpräzise Muster mit großen Funktionsflächen und bietet verbesserte Fang- und Entfangbarkeit Fähigkeiten für hohe thermische Stabilität bei der Herstellung von hochwertigen ICs. MERCURY MP enthält auch spezielle Photoresist-Formulierungen zur Verbesserung der bildgebenden und Ätzprozessausbeute. Darüber hinaus ermöglicht sein fortschrittliches Stepper-Control-Modul eine präzise Ausrichtung und Positionierung des Fotolacks. Insgesamt ist FSI MERCURY MP ein effizientes Photolackwerkzeug, das eine erhöhte thermische Stabilität, präzise Muster und eine verbesserte Prozessausbeute bietet. Das fortschrittliche elektro-optische Modul sorgt für hochwertige ICs. Sein Stepper-Control-Modul erhöht die Genauigkeit des Photolithographie-Prozesses, während seine Photoresist-Formulierungen helfen, den Bildgebungs- und Ätzprozess zu verbessern. All diese Eigenschaften machen MERCURY MP zu einem idealen Photoresist für Halbleiterhersteller.
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