Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9122700 zu verkaufen

FSI MERCURY MP ist eine hochentwickelte Photoresist-Ausrüstung, die hervorragende Ergebnisse in Photolithographie-Prozessen liefert. Es ist speziell auf mikroelektromechanische Systeme (MEMS) und Mikroschaltungen zugeschnitten. Die symbiotische Kombination der wünschenswerten Eigenschaften von Flüssigkeits- und Trockenfilm-Photoresists, die durch ein hocheffizientes Beschichtungs- und Belichtungsverfahren ermöglicht wird, ermöglicht dem System eine hochmoderne Produktleistung für MEMS und Mikroschaltungen. MERCURY MP Photolackeinheit verwendet eine einzigartige Flüssigkeitsresist- und Trockenresistkombination, um eine überlegene Auflösung, Haftung und Ätzbeständigkeit zu bieten. Der flüssige Resist wird auf das Substrat aufgebracht und anschließend mit ultraviolettem Licht getrocknet. Dies bietet ein einheitliches, gut definiertes Muster mit ausgezeichneter Merkmalsdefinition und deutlich geringerer Hinterschneidung als ein typischer flüssiger Photoresist. Das Resistmuster wird auf die darunterliegende Substratschicht übertragen, indem es ultraviolettem Licht ausgesetzt wird. Der Belichtungsprozess aktiviert eine effiziente Photochemie, die die ungeschützten Oberflächenbereiche ablottet und ein scharfes, klares Linienmuster liefert. Anschließend wird der Trockenresist auf die belichtete Flüssigkeitsresistschicht aufgebracht. Es bietet einen zusätzlichen Ätzwiderstand, der eine bessere Maßkontrolle ermöglicht. Der Trockenresist weist außerdem eine zusätzliche Schichthaftunterstützung im gesamten Haftverhalten des Resiststapels auf. Durch die Kombination von Flüssigkeits- und Trockenfilm-Photoresists bietet FSI MERCURY MP Kunden eine Lösung, die sowohl eine verbesserte Auflösung als auch eine erhöhte Ätzfestigkeit bietet. Die MERCURY MP Maschine verfügt über ein hocheffizientes Beschichtungs- und Belichtungsverfahren, das auf MEMS und Mikroschaltungen zugeschnitten ist. Es verwendet patentierte hochkohärente Produkte und Technologien, um optimale Ergebnisse bei geringer Verschmutzung und ohne Bildverzerrung zu gewährleisten. Das hocheffiziente Belichtungsverfahren ermöglicht die volle Nutzung einer Oberfläche mit kontrollierter Substratausdehnung, was zu einer verbesserten Linienbreite und kritischen Dimensionskontrolle führt. Der Belichtungsprozess ist optimiert für die Strukturierung einer Reihe von Materialien, einschließlich Silizium, Silikon und anderen Materialien. Das FSI MERCURY MP-Tool bietet eine Vielzahl von Standard-Fotoresist-Formaten, mit denen Kunden die beste Leistung für ihre Anwendungsanforderungen erzielen können. Von großflächigen Anwendungen bis hin zur detaillierten Geräteherstellung ist das Asset auf Leistung und Zuverlässigkeit ausgelegt. Mit seiner einfachen Benutzeroberfläche und dem robusten Prozess ist MERCURY MP die ideale Modellauswahl für die Produktion von MEMS und Mikroschaltungen und bietet Qualität, Zuverlässigkeit und Kosteneffizienz.