Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9217485 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP ist eine automatisierte Photolackausrüstung, die speziell für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Dieses System verwendet die neueste Technologie bei der intensiven ultravioletten Lichthärtung eines lichtempfindlichen Materials, um eine fertige Schicht aus geätztem Material über die gesamte Oberfläche des Substrats zu erzeugen. Dieses Gerät eignet sich hervorragend für die Herstellung von Hochleistungsmikroelektronik, Nanotechnologie und Optoelektronik. FSI Mercury MP Maschine verwendet ein patentiertes hochauflösendes Bildprojektionsverfahren, um ultraviolettes Licht durch ein gewünschtes Muster von lichtempfindlichem Material zu liefern. Dies wird mit Mikrolithographie kombiniert, um nanogroße Funktionen mit jedem Zyklus der Bildprojektion zu schaffen. Das projizierte Bild wird dann auf ein Substrat übertragen und mit dem hochintensiven ultravioletten Licht ausgehärtet. Dieses Verfahren ermöglicht die Verwendung präziser Kombinationen von Photolithographie und Lasermuster für Mikrometer-Maßstab-Merkmale und Nanometer-Maßstab-Merkmale. Ermöglicht viel bessere Genauigkeit und Reproduzierbarkeit als manuelle Prozesse oder Photolithographie allein. Das Werkzeug enthält einen Stepper/Scanner, der verwendet wird, um die ultraviolette Lichtbelichtung genau zu messen, wenn sie durch die Maske und auf das Substrat gelangt. Der Schritt-/Scanner ist eng mit einer mehrzonigen temperaturgesteuerten Keramikheizung integriert. Dies ermöglicht eine genaue, wiederholbare und präzise Aushärtung verschiedener Materialien in einem einzigen, nahtlosen Betrieb. Infolgedessen erhöht die hochauflösende Bildprojektion, kombiniert mit der präzisen Steuerung von Temperatur und Feuchtigkeit, die Produktionszykluszeit erheblich, unter Beibehaltung sehr hoher Produktausbeute. Neben der Photoresist-Verarbeitung ermöglicht TEL Mercury MP die Verwendung einer Hochvakuum-Werkzeugkammer für ultrafeine Lithographieanwendungen. Diese Kammer ist mit einem Hochvakuum-Kryostaten ausgestattet, der Temperaturen von -25 ° C zur schnellen Aushärtung von lichtempfindlichem Material erreichen kann. Dies ermöglicht eine möglichst hohe Auflösung bei der Herstellung mikroelektronischer und nanoelektronischer Produkte. Das Mercury MP-Modell ist für die Verarbeitung großer Substrate ausgelegt. Es ist in der Lage, bis zu drei Substrate gleichzeitig zu handhaben, und das Gerät bietet ein automatisiertes Mittel zur Übertragung von Prozess- und Substratinformationen zwischen den Komponenten. Dies ermöglicht eine höhere Flexibilität und eine verbesserte Produktionszykluszeit. Insgesamt ist das TOKYO ELECTRON Mercury MP Photoresist System ein hervorragendes Werkzeug für die Herstellung fortschrittlicher Mikroelektronik und Optoelektronik. Die mitgelieferte Hardware und Software bieten fortschrittliche Technologie, Genauigkeit und Wiederholbarkeit, die einen hochproduktiven Herstellungsprozess ermöglichen.