Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9228777 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP Photoresist Equipment ist ein hochautomatisiertes und integriertes System, das eine präzise Handhabung von Photoresist-Schichten bei der Entwicklung, Lithographie und Messtechnik ermöglicht. Photoresist ist ein dünner, lichtempfindlicher Polymerfilm, der in der Lithographie verwendet wird, um Mikrostrukturen auf der Oberfläche eines Substrats zu erzeugen. Die Spline-Antriebsstufe des Geräts verwendet Linearmotoren, die eine patentierte, servoangetriebene Interpolationstechnologie verwenden, um eine präzise und genaue Positionsgenauigkeit während der Oberflächenregistrierung, der Belichtung und der Reinigung nach der Entwicklung zu gewährleisten. Die Maschine ist mit einer breiten, parallelen Stufe ausgestattet, die große Photomaskengrößen ermöglicht und die höchste Auflösung in einer einzigen Belichtung bietet. Seine fortschrittliche Belichtungstechnologie ermöglicht das Scannen von Belichtungsmustern wie diagonalen Linien und Bögen für hochpräzise Ätz- und Musterübertragungsgenauigkeit. Seine präzise Belichtungsmodulation durch Halbleiterlaser ermöglicht hochpräzise Belichtungen von Resistpixeln mit präziser Tonhöhensteuerung. Neben seinen Expositionsmöglichkeiten bietet FSI Mercury MP auch eine vollständige Palette von messtechnischen Werkzeugen für präzise Substratanalysen und Waferinspektionen. Sein Messtechnik-Tool verwendet Laser-Interferenzmikroskope, konfokale Mikroskope und pseudo-atomare Kraftmessungen, um kritische Größe, Musterplatzierung und Form und Geräteeigenschaften genau zu messen und zu erfassen. SkyScan hochauflösende Inspektionswerkzeuge werden eingesetzt, um hochfrequente Funktionen mit hoher Auflösung, Präzision und Genauigkeit zu erkennen. Phoenix-Masken werden verwendet, um die Genauigkeit der Musterform von hochauflösenden Resist-Funktionen zu überprüfen. Zur weiteren Auswertung der gesammelten Daten stehen Datenerfassungs- und Analysesoftware-Tools zur Verfügung. Das Asset bietet auch Prozesssimulationsmodelle an, um die Musterabmessungswerte vorherzusagen, bevor der Resist der Lithographie verpflichtet wird. Die integrierte Prozessrezept-Bibliothek enthält eine umfangreiche Liste von Photolithographie-Prozessen und Rezepten, um den Betrieb zu optimieren und die Reproduzierbarkeit zu gewährleisten. Das Modell verfügt über temperaturgesteuerte Kammern zur Unterstützung von lufttemperaturgeregelten Ätzprozessen. TEL Mercury MP Photoresist-Geräte bieten eine komplette Plattform für schnelle, genaue und reproduzierbare Lithographie- und Bildgebungsergebnisse. Die hohe Auflösung und Präzision des Systems, modernste Messtechnik und Inspektionslösungen sowie umfangreiche Rezepturbibliotheken machen es zu einer idealen Wahl für eine Reihe von Anwendungen von der Halbleiterbauelementherstellung bis zur Mikrofluidik.