Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9243803 zu verkaufen

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FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP
Verkauft
ID: 9243803
System.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Dieses System ist so ausgelegt, dass es die Anwendung des exakt gewünschten lithographischen Musters im Geräteherstellungsprozess ermöglicht. Photoresistsysteme ermöglichen die Erstellung von Mustern auf einem Wafersubstrat, indem eine lichtempfindliche Chemikalie einer strukturierten Lichtquelle ausgesetzt wird. FSI Mercury MP ist ideal für eine Vielzahl von Photoresist-Prozessen, einschließlich positiver und negativer Resiststoffe, sowie dichte und komplexe Muster. Das Gerät bietet eine Reihe von Funktionen, um höchste Präzision und Leistung zu gewährleisten, einschließlich eines ultrahochauflösenden Scankopfes, fortschrittlicher Photonenerkennung und Pulskompression. Die gepulste Laserquelle hat einen Wellenlängenbereich von 400 bis 800 Nanometern für eine genaue und wiederholbare Strukturierung. TEL Mercury MP Maschine verfügt auch über mehrstufige Mustererkennung, so dass es in der Lage, Gleichmäßigkeit und Präzision über eine breite Palette von Substraten zu erreichen. Das Tool ist mit einer grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die einfach zu bedienen ist und eine schnelle Einrichtung und Bedienung ermöglicht. Darüber hinaus bietet das Asset Datenanalyse und grafische Overlay-Funktionen, mit denen Benutzer die Ergebnisse ihrer Prozesse genau bewerten können. Mercury MP wurde entwickelt, um schnelle Prozesszeiten zu erzielen und ist ideal für die Serienproduktion. Darüber hinaus verfügt das Modell über thermische Merkmale, die empfindliche Teile schützen und das Risiko von thermischen Schäden reduzieren. Die Geräte sind zudem äußerst zuverlässig und verfügen über ein vollautomatisches Überwachungs- und Diagnosesystem, um eine optimale Leistung und eine niedrige Ausfallrate zu gewährleisten. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Mercury MP eine ideale Einheit für Photoresist-Prozesse, die fortschrittliche Funktionen und zuverlässige Leistung bietet. Mit der mehrstufigen Erkennung, dem hochauflösenden Scankopf und der automatisierten Überwachung und Diagnose ist die Maschine gut geeignet, um das gewünschte lithographische Muster für jeden Halbleiterherstellungsprozess zu erreichen.
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