Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9250089 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP Photoresist Equipment ist ein Lithographiesystem zur Herstellung von integrierten Schaltungen und Mikrostrukturen. Es basiert auf einem abgetasteten Laserlicht belichteten resistbeschichteten Substrat, das dann mit einem chemischen Verfahren entwickelt wird. Die FSI Mercury MP-Einheit weist eine Wellenlänge von 248 nm und eine numerische Apertur von 0,3 auf. Es ist in der Lage, die Form und Position des Laserstrahls automatisch zu erfassen und anzupassen, um sicherzustellen, dass genaue Muster auf Substraten erzeugt werden. Der Resonator wurde entwickelt, um den Durchsatz und die Bildqualität weiter zu verbessern, während die RLS-Maschine (Reticle Level Control) eine präzise Overlay-Ausrichtung gewährleistet. Die Systeme beinhalten ein fortschrittliches Bildgebungs- und Fotomasken-Tool, das Musterbilder bis zu 28nm liefern kann. Das Asset besteht aus zwei Photomasken, einer für die Körpermusterung und einer für die Kontaktmusterung. Die Photomasken werden von einer Airgap-Bildgebungssoftware unterstützt, die eine komplizierte Maskenüberlagerung und Photoresist-Prozessoptimierung ermöglicht. Das Modell kann für eine Vielzahl von Lithographieverfahren verwendet werden, einschließlich Spin Coating, Kontakt- und Projektionsdruck und Belichtung im Nanometermaßstab. Es ist für eine breite Palette von Wafergrößen ausgelegt, von 4 bis 8 Zoll im Durchmesser. Darüber hinaus sorgt die eingebaute Temperaturregeleinheit für eine außergewöhnliche Prozessstabilität. Das TEL Mercury MP-System bietet überlegene Bildgebungsfunktionen und eine enge Prozesskontrolle sowie eine hervorragende Gleichmäßigkeit der Fotolackierung. Es ermöglicht auch eine schnelle Bildgebung und Prozesswendezeit, reduziert die Musterkosten und minimiert die Nachbearbeitung von Teilen. Dies macht es zu einer idealen Wahl für Anwendungen, in denen hohe Geschwindigkeit, genaue Bildgebung und effiziente Prozesskontrolle entscheidend sind.