Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9271639 zu verkaufen

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FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP
Verkauft
ID: 9271639
Wafergröße: 6"
Spray cleaning system, 6".
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von FSI in Zusammenarbeit mit TEL Tokyo Electronics entwickelt wurde. Es ist ein Hochdurchsatzwerkzeug zur Erzielung der gewünschten Muster auf Halbleiterscheiben durch Belichten der Photolackschichten auf den Scheiben. Es hat ein hohes Maß an Leistung und Genauigkeit, so dass es ein leistungsfähiges System für die Herstellung einer Vielzahl von Mustern. Das Gerät verfügt über eine Belichtungsmaschine, ein Wafer-Vorbehandlungswerkzeug, ein Backgut nach der Exposition und ein Gleismodell. Die Belichtungseinrichtung verwendet eine Laserbelichtungsquelle, die ein intensives Belichtungsmuster erzeugen kann, und ein automatisches Sichtsystem, das in der Lage ist, das Belichtungsmuster auf der Photoresistschicht des Wafers genau anzuordnen. Dadurch wird sichergestellt, dass das erzeugte Muster hochgenau und präzise ist. Die Wafer-Vorbehandlungseinheit verfügt über einen automatisierten Schleudertrocknerzyklus, der Reinigungs-, Spül- und Trocknungsschritte kombiniert, um sicherzustellen, dass der Wafer vor der Exposition frei von Verunreinigungen ist. Die Nachbelichtungsbackmaschine sorgt für ein gleichmäßiges, hochtemperaturbacken der Photolackschicht, was für eine gute Abbildungsleistung erforderlich ist. Schließlich bietet das Schienenwerkzeug mit seinen mechanischen und elektrischen Systemen die höchste Be- und Entladeleistung, um sichere, effiziente und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Die Anlage hat einen geringen Platzbedarf und bietet eine große Kapazität, was sie zu einer kostengünstigen Lösung für kompakte Verarbeitungsgeräte macht. Zusammen bieten die Merkmale des Modells eine leistungsfähige Kombination aus Leistung, Genauigkeit und Durchsatz, die ideal für die Herstellung einer Vielzahl von Mustern auf Halbleiterscheiben sind. Die Anlage ist einfach zu bedienen und kann in einen bestehenden Halbleiterherstellungsprozess integriert werden.
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