Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9281725 zu verkaufen

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ID: 9281725
Spray cleaning systems PFA Turntable, 8" (2) Booster pumps Dual exhaust rinse box IR Chemical heater (5) Chemical tanks (2) Chemical consoles Chemicals used: HF, H2O2, HCl, HNO3, H2SO4 Helios DI-heater: 52kW.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP ist ein Photoresist-Gerät mit einem fortschrittlichen Design, das signifikante Verbesserungen in der Auflösung, Geschwindigkeit und Leistung von Halbleiterherstellungsprozessen bietet. Das System ist mit einer fortschrittlichen Scaneinheit ausgestattet, die eine direkte Abbildung von Photolack auf Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm ermöglicht. Es enthält auch einen hochpräzisen Roboterarm zur genauen Platzierung und Entfernung von Fotolack auf dem Substrat. Die Maschine ist mit einer motorisierten Stufe und einem Schwingungsisolationswerkzeug zur präzisen Positionierung und Steuerung des Wafers ausgestattet. Die Anlage wurde entwickelt, um präzise Ergebnisse durch enge Prozesskontrolle und präzise Substratpositionierung zu erzielen. Es verwendet ein hochauflösendes, digitales Optikmodell für die Bildgebungs- und Beleuchtungsausrüstung, das eine präzise Abbildung von Fotoresists ermöglicht. Dieses digitale Optiksystem liefert auch präzise, wiederholbare Belichtungen für präzise Fertigungsprozesse. Das Gerät verwendet eine automatische Lademaschine, um eine kontinuierliche und präzise Photolackbelastung auf dem Substrat zu gewährleisten. Das Werkzeug enthält auch eine einzigartige Lampe und Kopf, die ein homogenes Muster auf dem Substrat erzeugt und sorgt für eine präzise Photoresist-Anwendung. Die präzise, wiederholbare Belichtung und der präzise Photolackbeladungsprozess ermöglichen schnelle und präzise Merkmale über verschiedene Wafer hinweg. Die Anlage verfügt auch über fortschrittliche Sicherheitsmerkmale wie Isolationssysteme und Strahlungsabsorber, die einen sicheren Lithographieprozess gewährleisten. Das Modell wird von einer leistungsstarken, dedizierten Antriebsausrüstung angetrieben, die eine genaue Positions- und Geschwindigkeitskontrolle während des Herstellungsprozesses gewährleistet. Es ist mit einer Reihe von Steuerungs- und Diagnosewerkzeugen ausgestattet, die eine präzise und wiederholbare Verarbeitung von Photoresists ermöglichen. Das System ist mit verschiedenen Steuerungssystemen für Parameter und Datenintegration ausgestattet, die eine präzise und wiederholbare Steuerung des Prozesses ermöglichen. Insgesamt ist die Photolackeinheit FSI Mercury MP eine leistungsstarke und zuverlässige Maschine, die eine verbesserte Produktivität, Präzision und Prozesskontrolle bietet. Dieses Tool bietet eine hervorragende Leistung und ist eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterherstellungsprozesse. Es ist mit einer Reihe von Funktionen und Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um einen sicheren und präzisen Herstellungsprozess zu gewährleisten.
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