Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9299003 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Photolithographie-Tool für die Verarbeitung von elektronischen Gerätekomponenten entwickelt. Das System besteht aus einem Stepper, einer mehrachsigen Stufe und einem Fotolack, der eine hochgenaue und gleichmäßige Strukturierung von Schaltkreisen auf der Oberfläche verschiedener Gerätetypen ermöglicht. Der Stepper ist der Kern der Einheit, so dass Strahlungsquellen die Belichtung des Photolackmaterials bereitstellen können. Die Strahlungsquelle ist eine Quecksilberdampflampe mit einer ultrahohen Intensitätsleistung, die in anderen Schrittsystemen beispiellos ist. Es ist auch mit einer Optik ausgestattet, die es in der Lage macht, repetitive Muster auf einheitlicher Basis genau abzubilden. Die in der Photolackmaschine verwendete mehrachsige Stufe ermöglicht eine einfache und präzise Neupositionierung der Komponenten während der Belichtung. Dies garantiert eine gleichmäßige Strukturierung über einen weiten Bereich, so dass ein anpassbarer Photolithographievorgang möglich ist. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, komplexe Konstruktionsregeln genau zu befolgen, so dass es auch komplexe Retikelformen anpassen kann. Das in der FSI Mercury MP Photoresist-Anlage verwendete Photoresist-Material ist für eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Auflösung ausgelegt. Es ist sehr langlebig und beständig gegen Schäden durch Belichtung und bietet auch überlegene Bildauflösungen auf allen Fokusebenen. Durch die Kombination dieses Materials mit der Stufe und der mehrachsigen Bühne ist das Modell in der Lage, Bilder zu erzeugen, die mit überlegener Klarheit und feinen Linienbreiten. Zusammenfassend ist TEL Mercury MP Photoresist Equipment ein äußerst zuverlässiges und vielseitiges Werkzeug für die Herstellung elektronischer Komponenten. Seine Stepper, Multi-Achsen-Bühne, und Photoresist bieten überlegene Leistung und Genauigkeit, so dass es die ideale Wahl für eine Vielzahl von Photolithographie-Anwendungen.