Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9399075 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP Photoresist System ist ein effizientes und zuverlässiges System, das für die Verarbeitung von Wafern im Halbleiterherstellungsprozess verwendet wird. Es verwendet ein zweistufiges Resist-Beschichtungsverfahren, um einen dünnen und hochgleichförmigen Photolackfilm auf einem Substrat zu erzeugen. Diese Folie wird zur Grundlage für die Weiterverarbeitung auf dem Wafer und ist entscheidend für die Genauigkeit und Zuverlässigkeit des Endprodukts. FSI Mercury MP verwendet vor der ersten Resistbeschichtung eine Standard-Heizstufe für den Wafer. Dadurch wird sichergestellt, dass die Oberflächentemperatur für den Beschichtungsprozess optimal ist. Anschließend gibt ein spezialisierter Spin-Spray-Kopf eine gleichmäßige Resistschicht über die Oberfläche des Substrats aus. Diese Folie wird dann im Ofen eingebrannt, um den Resist mit dem Substrat zu verbinden. Die zweite Resistbeschichtung kann mit einem zweiten Spin-Spray-Kopf oder einem abnehmbaren Plattenmodul durchgeführt werden. Je nach Art des verwendeten Resists kann eine andere Backtemperatur erforderlich sein, um sicherzustellen, dass der Resist richtig klebt. Nach Beendigung der zweiten Resistbeschichtung wird dann eine Energieschicht auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht. Durch diese Energie reagiert der Resist auf eine statische Ladung, die ein Muster erzeugt, das zur Weiterverarbeitung des Wafers verwendet werden kann. TEL Mercury MP ist ein effizientes Verfahren zur Anwendung von Photoresist, das zuverlässige Ergebnisse liefert. Das System verwendet die neueste Technologie, um sicherzustellen, dass der Resist genau auf dem Substrat platziert wird und die höchste Produktqualität erreicht wird. Damit ist das Verfahren zuverlässig und eine perfekte Option für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.