Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #190491 zu verkaufen

FSI Mercury OC ist ein Photolacksystem, das in der Halbleiterindustrie zur Abscheidung dünner Filme auf Siliziumscheiben und zur Herstellung komplexer Strukturen aus Silizium und anderen Materialien verwendet wird. Das System verwendet eine quecksilberbasierte Lichtquelle (OC), um die Photolackschicht im Prozess der Lithographie zu belichten, um die gewünschten Muster und Strukturen zu erzeugen, und ist mit fortschrittlicher Optik und Software für eine präzise Kontrolle und genaue Ergebnisse konzipiert. Das Verfahren der Photolithographie beinhaltet das Spinnen eines mit einem Photolackmaterial beschichteten Wafers auf einer Spindel und das Belichten der Resistschicht mit einer Lichtquelle in definierten Musterformen. Merkmal von Mercury OC ist die präzise Steuerung der Lichtquelle, die durch ihre einzigartige Optik und Software erreicht wird. Dies ermöglicht die Bildung von Formelementgrößen bis unter einen Mikron bei beispielloser Genauigkeit und Stabilität. Ein weiteres wichtiges Merkmal von FSI Mercury OC ist seine hochauflösende Bildgebung, die durch die Verwendung einer niedrigen Lichtintensität in Verbindung mit einem hohen Aperturfeld erreicht wird. Dies ermöglicht die Abbildung von vielen verschiedenen Ebenen von Mustergeometrie und Struktur, einschließlich KEs, die so klein wie 0,2 Mikrometer sind. Darüber hinaus ist seine Optik darauf ausgelegt, Musterverzerrungen in Form von Linienplatzierungsfehlern, Musterverschiebungen und Überlappungen zu minimieren. Mercury OC ist ein eigenständiges Lithographiesystem, und der Benutzer kann die Parameter nach Bedarf anpassen. Dazu gehören Belichtungszeit, Laserleistung, Fokusposition und Strahlneigung, die für die Strukturierung jeder Geometrie geändert werden können. FSI Mercury OC ist eine optimale Wahl für die Strukturierung von Silizium und anderen Materialien mit hoher Genauigkeit und Zuverlässigkeit. Es bietet ein hohes Maß an Kontrolle, so dass Benutzer genau die gewünschten Funktionen zu erreichen. Seine hochauflösende Bildgebung, geringe Lichtintensität und Nanopatterning-Fähigkeiten ermöglichen es Benutzern, komplizierte Muster und Strukturen zu erzeugen, was zu Spitzen-High-End-Halbleitertechnologie führt.