Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9015074 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC Photoresist Equipment ist ein chemisches Beschichtungssystem, das eine präzise Steuerung ultradünner oder mikrondicker Photoresistschichten für Photolithographie-Prozesse ermöglicht. Diese Einheit erreicht eine beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit durch die Kombination von hochpräziser Folienbeschichtung mit präzisen gleichmäßigen Resists. Die Maschine ist mit einem Präzisionsfilmbeschichtungswerkzeug ausgestattet, das die Dicke dünner Schichten bis zu 1,2nm steuern kann. Es verwendet auch drei einzigartige Filmbeschichtungstechniken: Drag-Methode, Jet Drop-Methode und Direct Dispense-Methode, die die Beschichtungsgenauigkeit und Gleichmäßigkeit erhöhen. Die Anlage verfügt zudem über einen präzisen, gleichmäßigen Resist, der reproduzierbare Resistschichtdicken ermöglicht. Dieses Modell ist in der Lage, sehr schmale Linienbreiten zu schaffen, die für fortgeschrittene Geräteherstellungsprozesse wesentlich sind. FSI Mercury OC Photolackausrüstung ist mit einem leistungsfähigen Softwarepaket ausgestattet, das intuitive Steuerungs- und Prozessüberwachungsfunktionen bietet. Die Software ermöglicht es dem Anwender, Beschichtungsalgorithmen schnell zu definieren und eine verkürzte Markteinführungszeit für Produkte zu gewährleisten. Die Software enthält auch eine optionale Netzwerkverbindung, die dem Benutzer Fernüberwachungs- und Steuerungsfunktionen bietet. Dies ermöglicht die gemeinsame Nutzung von Daten zwischen verschiedenen Prozessschritten sowie die Diagnose und Wartung von Remote-Geräten. Das System bietet zudem eine integrierte Rückverfolgbarkeit durch die Einhaltung von Industriestandard-Protokollen. Diese Funktion ermöglicht die Verfolgung und Protokollierung von Prozessparametern, sodass die Betreiber Daten problemlos abrufen, Prozessdaten verbessern und die Einhaltung behördlicher Auflagen aufrechterhalten können. TEL Mercury OC Photoresist Einheit ist sehr zuverlässig und resistent gegen Verschlechterung. Es ist leistungsstark und zuverlässig genug, um eine Vielzahl von komplexen Mikroschaltungs-Verarbeitungsanwendungen zu bewältigen, was es zu einem integralen Bestandteil des Fotolithographie-Prozesses macht.