Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9220294 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC ist eine Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um fortschrittliche lithographische Prozesse auf einer Vielzahl von Substraten durchzuführen. Photoresist ist ein Material, das sich chemisch verändert, wenn es Licht ausgesetzt wird. Diese Technologie wird in einer Reihe von Branchen wie der Herstellung von Halbleiterbauelementen, dem Drucken und der Herstellung medizinischer Geräte eingesetzt. FSI Mercury OC-System ist eine Erweiterung der FSI Venus Deep-UV-Photoresist-Plattform. Es wurde speziell entwickelt, um die einzigartigen Anforderungen des Lithographieverfahrens in der Sub-Quarter Micron IC-Produktion zu erfüllen. Dieses Gerät kombiniert hocheffiziente belichtete Filmplanungstechnologie, fortschrittliche Bewegungssteuerung und ultrahohe Auflösungsfunktionen (bis zu 1 µm). Die Maschine ist mit einem fortschrittlichen, anspruchsvollen Waferfutter und einer zuverlässigen Lichtquelle ausgestattet, die in der Lage ist, sehr fokussierte und konsistente Belichtungen über große Bereiche zu liefern. Dies stellt sicher, dass der Belichtungsprozess genau ist, mit minimalen Fehlern und Artefakten. TEL Mercury OC-Tool verwendet auch eine hochempfindliche und zuverlässige Photomasken-Lithographie, um komplexe Muster genau auf den Resist zu übertragen. Das Modell ist in der Lage, eine Vielzahl von Resistmaterialien wie positiven und negativen Resist, organischen und anorganischen Resists sowie trocken- und nassgeätzten Resists genau zu manipulieren. Es kann auch eine breite Palette von Dicken und Beleuchtungen aufnehmen und liefert präzise, fein abgestimmte Belichtungen. Quecksilber OC-Ausrüstung bietet auch Flexibilität in Bezug auf kritische Abmessungen, so dass eine breite Palette von kritischen Abmessungen erreicht werden kann. Diese Fähigkeit ist entscheidend für eine präzise Strukturierung, da die ausgelieferte Belichtungstiefe und die Fähigkeit, kritische Dimensionen zu verwalten, für Hochleistungs-Lithographie-Prozesse unerlässlich sind. Die Technologie bietet darüber hinaus eine überlegene Prozesssteuerung, die durch den Einsatz eines fortschrittlichen Prozessüberwachungs- und Steuerungsmechanismus in Kombination mit einem präzisen Mikropositionierungssystem erreicht wird. Dadurch wird sichergestellt, dass der Belichtungsprozess reibungslos abläuft und die gewünschten präzisen Muster bei hoher Geschwindigkeit und hoher Ausbeute erreicht. Schließlich ist das Gerät auch mit fortschrittlicher Automatisierungstechnologie ausgestattet, die zuverlässige, kostengünstige und serienstarke Produktionsläufe ermöglicht. Zusätzlich ist es mit einer intuitiven Benutzeroberfläche ausgestattet, die es einfach zu bedienen macht und minimale Trainings- und Rüstzeiten erfordert. Abschließend ist TOKYO ELECTRON Mercury OC Photoresist Machine ein hochentwickeltes Lithographie-Tool, das präzise, ertragreiche und kostengünstige Produktionsabläufe bei hohen Geschwindigkeiten ermöglicht. Es bietet überlegene Prozesskontrolle, Flexibilität in kritischen Dimensionen und genaue Belichtungen und ist damit ein unschätzbares Werkzeug für die Lithographie in fast jeder Branche.