Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9233116 zu verkaufen

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ID: 9233116
Wafergröße: 5"
Spray processor, 5" Single cassette, 8" Diameter, 14" A192-81M 25WH Rotor, 8" Fed from central chemical distribution set up No separate chemical carts with chemical canisters.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine hochgenaue und wiederholbare Abbildung der Waferoberfläche ermöglicht. Es ist ein einspaltiger Scanner mit einem Schritt- und Scanner-Bewegungssteuerungssystem, das es ermöglicht, hochgenaue Muster auf dem Wafer zu erstellen. Die Schritt- und Scanner-Bewegungssteuerung ermöglicht es, den Fotolack exakt zu positionieren und auszuwerfen. Die Maschine verfügt außerdem über ein hochauflösendes optisches Bildgebungswerkzeug und ein integriertes Vision-Asset, mit dem sie ihre Muster schnell und genau auf Fehler überprüfen kann. Das Modell wurde entwickelt, um mit einer breiten Palette von Photolackmaterialien zu arbeiten, einschließlich positiver und negativer Photoresists. Es kann Bilder mit Auflösungen von bis zu 0,1 Mikron erzeugen, so dass es extrem kleine und komplizierte Muster zu produzieren. Das Gerät verfügt auch über ein automatisiertes Reinigungssystem, das hilft, das Resistmaterial unübersichtlich zu halten. Dadurch bleibt die Einheit auf höchstem Wirkungsgrad am Laufen und es wird sichergestellt, dass Muster konsistent und genau hergestellt werden. Zusätzlich zu seinen bildgebenden Funktionen bietet die Maschine weitere Funktionen zur Optimierung des Wafer-Herstellungsprozesses. Es verfügt über einen integrierten Bildsensor, der es ermöglicht, Muster auf der Waferoberfläche zu registrieren. Darüber hinaus verfügt es über eine patentierte „Auto Image Inspection“ -Funktion, die auch bei hohen Auflösungen konsistente Musterergebnisse gewährleistet. FSI Mercury OC ist für den Einsatz in fortschrittlichen Prozesstechnologien konzipiert. Es eignet sich für den Einsatz in Halbleiter-, MEM- und Nanoproduktionsprozessen. Es ist ideal für den Prototypenbau und die Produktion von hochkomplizierten Strukturen mit Merkmalen bis zu 0,1 Mikron. Dieses Tool eignet sich auch für die Erstellung von elektronischen Komponenten der nächsten Generation, wie MEMS und NEMS-Strukturen auf mehreren Ebenen. Das Asset ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen, mit fortschrittlichen Bewegungssteuerungs- und Bildverarbeitungstechnologien. Es basiert auf den neuesten Computersoftware-Plattformen und ist mit allen gängigen Fotolackmaterialien kompatibel. Das Modell bietet auch eine langfristige Investition, mit seinem langlebigen und zuverlässigen Maschinenpark ist es die ideale Wahl für Unternehmen, die nach einer effektiven und kostengünstigen Lösung für ihre Wafer-Herstellung suchen.
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