Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9233651 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC Photoresist Equipment ist ein hochpräzises Werkzeug, das verwendet wird, um Schicht auf Schicht eines präzise dimensionierten und präzise aufgebrachten Materials auf einem bestimmten Substrat abzulegen oder proaktiv die Oberfläche zu formen. Das System ist anwendbar für F&E- und Pilotfertigung für verschiedene Mikroherstellungsverfahren innerhalb von MEMS, Halbleiter- und verwandten Industrien. Die Standardfunktionen der FSI Mercury OC-Einheit bestehen darin, ein Substrat mit einem Photolackmaterial genau zu beschichten und das Muster oder Profil des Photolackmusters mit einem Kontaktbelichtungswerkzeug oder dem in der Maschine gefundenen direkten Serienschreibwerkzeug genau zu definieren. Das Photoresist-Abscheideverfahren wird typischerweise in der elektronischen Schaltungsherstellung und optoelektronischen Geräteherstellung oder Prototyping eingesetzt. Das Kontaktbelichtungswerkzeug ist für die Erstellung der präzisen Abbildungsmuster verantwortlich, die durch die im Werkzeug verwendeten vordefinierten Retikel bestimmt werden. Abhängig von den verwendeten Retikeln können höhere Leistungsmuster erzeugt werden, wodurch erweiterte Funktionen wie größere Seitenverhältnisse, nicht rechteckige Formen, 3D-Mikrostrukturen und feinere Linienbreiten ermöglicht werden. Das direkte serielle Schreibverfahren von TEL Mercury OC besteht darin, Belichtungsenergie über die Abtastoberfläche zu modulieren, um unterschiedliche Abbildungsmuster für die Filmmusterung zu erreichen. Die Gesamtleistung von Mercury OC Asset wird durch die Verwendung eines Turbopumpen-Vakuummodells weiter verbessert, das eine überlegene Abscheidungsgleichmäßigkeit, höhere Prozessgeschwindigkeiten und eine präzise Kontrolle der Filmdicke ermöglicht. Darüber hinaus verfügt TOKYO ELECTRON Mercury OC auch über eine Kühlausrüstung und Feuchtigkeitskontrolle, die präzisere und wiederholbare Prozesse ermöglicht. Als umfassendes Photoresist-System bietet FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC Photoresist-Einheit hochpräzise Musterfunktionen für eine Vielzahl von Branchen. Die Maschine wurde für Hochleistungs-Energieeffizienz und präzise Musterung entwickelt und ist damit eine führende Wahl bei der Herstellung von MEMS, Halbleiter- und optoelektronischen Bauelementen.