Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9281186 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das verwendet wird, um Merkmale wie Schaltungsmuster auf einem Substrat durch Photolithographie zu erzeugen. FSI Mercury OC-System verwendet die neuesten optischen Corona-Technologien, um eine überlegene Auflösung bei der Strukturierung von Dünnschichtschichten zu bieten, wie sie bei der Herstellung von Mikroelektronik verwendet werden. TEL Mercury OC-Einheit besteht aus drei Modulen - einer Haupteinheit, einer Vorsiping-Einheit und einem Belichtungskopf. Die Haupteinheit ist eine dreiachsige bewegliche Bühne, die in der Lage ist, Substrate bis zu 900mm Größe zu handhaben. Dieses Gerät bietet präzise Positionsgenauigkeit und Wiederholgenauigkeit durch sein fortschrittliches Design und die Einbeziehung von drei hochpräzisen Servomotorsystemen. Die Pre-Siping-Einheit ist eine spezielle Maschine für die Herstellung von Photolack verwendet. Es kann die Dicke des lichtempfindlichen Materials genau messen und optimale Parameter für den Belichtungsprozess einstellen. Diese Einheit ist für den Einsatz mit präzisen und wiederholbaren Durchsatzraten ausgelegt und kann eine breite Palette von Substraten wie Wafern und Flachplatten handhaben. Der Belichtungskopf ist ein optisches Werkzeug mit zwei hochauflösenden Linsen und einem UV-Laser. Diese Einheit ist in der Lage, Photolackschichten verschiedener Dicken und Seitenverhältnisse exakt zu strukturieren. Es kann auch für die hochauflösende und Hochdurchsatzverarbeitung von großen Wafern und Flachplatten verwendet werden. TOKYO ELECTRON Mercury OC Photoresist Asset bietet überlegene Auflösung und Qualität beim Strukturieren von Dünnschichtschichten. Dieses Modell ermöglicht eine präzise Erfassung von Merkmalen und unterstützt eine breite Palette von Photolack und Substraten. Darüber hinaus bieten seine fortschrittlichen optischen Corona-Techniken eine verbesserte Geschwindigkeit und einen verbesserten Durchsatz bei der Verarbeitung großer Wafer und Flachbildschirme. Dank seiner präzisen, zuverlässigen und wiederholbaren Leistung ist Mercury OC Photoresist eine bevorzugte Wahl bei der Herstellung von Hightech-Elektronik und verwandten Komponenten.