Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9065484 zu verkaufen

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ID: 9065484
Wafergröße: 6"
Material handling system, 6" Electrical cabinet STAUBLI Electrical control cabinet.
FSI MERCURY ist ein modernes Photolackgerät. Photoresists werden verwendet, um Bereiche auf Kieselsäurebasis oder andere Arten von optischen Oberflächen selektiv abzuschirmen oder zu belichten, um integrierte optische Komponenten zu bilden. MERCURY ist ein thermisch stabiler fortschrittlicher Protonenstrahl-Photoresist mit Elektronenstrahlstabilität und Auflösung. FSI MERKUR photowidersteht System, besteht aus vier Bestandteilen: Eine Zwei-Mäntel-Formulierungschemie, ein planarizing Zweischichtmantelüberzug, eine Zwei-Mäntel-Drehung - auf Postaussetzungsversteifungsüberzug und einem Zwei-Mäntel-Zwischenniveaudielektrikumsüberzug, um Reflexionsvermögen zu verbessern. Die formulierende Chemie besteht aus zwei Hauptbestandteilen: Photoinitiator und Resistformulierung. Der Photoinitiator erzeugt die für die Resistbildung wesentliche reaktive Spezies, während die Resistformulierung als Bindemittel wirkt, das die Photoresisteigenschaften bestimmt. Durch Kontrolle der Konzentration dieser beiden Bestandteile kann die gewünschte Auflösung des Photolacks erreicht werden. Die zweischichtige planarisierende Deckschicht erzeugt bei Belichtung mit dem Fotolack eine ebene, ebene Oberfläche. Diese Schicht verbessert die Auflösung und Mustertreue des Photolackmusters. Die Zwei-Mäntel-Drehung - auf der Postaussetzung, die Überzug versteift, vergrößert die planarizing Wirkung des Mantels und vergrößert das Photohärten des Photowiderstehens und bietet auch zusätzliche planarizing Auswirkungen. Die zweischichtige dielektrische Zwischenschicht verbessert das Reflexionsvermögen der strukturierten Photolackschicht und erhöht die Genauigkeit der optischen Bauelemente. Die MERCURY Photoresist-Einheit hat eine ausgezeichnete Auflösung und Mustertreue und ermöglicht eine Submikronbelichtung mit dem Photoresist. Es hat einen niedrigen Absorptionskoeffizienten und einen niedrigen Ätzfaktor und eignet sich ideal für eine Vielzahl von Anwendungen wie komplexe integrierte optische Schaltungen und Mikrooptiken. FSI MERCURY Photoresist Maschine ist robust und thermisch stabil, so dass es gut für industrielle Anwendungen geeignet. Es hat auch ausgezeichnete Haftung und Ätzfestigkeit, so dass es ideal für langfristige Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit geeignet. MERCURY Photoresist-Tool ist kostengünstig und bietet Stabilität und Zuverlässigkeit, so dass es ideal für fortschrittliche integrierte optische Geräte.
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