Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9073572 zu verkaufen

FSI MERCURY ist eine Photolackanlage, die im Photolithographieverfahren zur Herstellung integrierter Schaltungen eingesetzt wird. Es handelt sich um eine hochentwickelte Resist-Technologie, die bei der Herstellung sehr kleiner Komponenten verwendet wird, wie sie auf stromintegrierten Schaltungen zu finden sind. Photolithographie ist ein Verfahren zur Übertragung einer gemusterten Maske auf ein Halbleitermaterial. Diese Technik verwendet lichtempfindliche Chemikalien, um sehr kleine Muster auf der Oberfläche zu erzeugen. MERCURY Photolacksystem ist eine der fortschrittlichsten Resisttechnologien, die bei der Herstellung von mikroelektronischen Geräten eingesetzt werden. FSI MERCURY Photolackeinheit besteht aus zwei Hauptmaterialien; ein photopolymerisierbares Monomer und ein Photolinker. Wenn das Monomer eine Vorbelichtungsstufe durchläuft und mit UV-Licht belichtet wird, bildet es auf der Substratoberfläche einen photopolymerisierbaren Film. Dieser Film wird dann durch den Photolinker zu einem permanenten Bild verknüpft. Das photorymerisierbare Monomer enthält eine chemische Struktur, die es ermöglicht, mit dem Photolinker zu vernetzen, was wiederum ein permanentes Muster auf der Substratoberfläche erzeugt. Sobald das photopolymerisierbare Monomer mit dem Photolinker kombiniert und das Muster auf die Substratoberfläche gebildet wird, kann die MERCURY-Maschine dann eine möglichst hohe Schicht-Schicht-Gleichmäßigkeit und Abbildungsleistung liefern. Dieses Tool erzeugt eine außergewöhnliche Definition und bietet eine hervorragende Auflösung und Linientreue für Anwendungen mit sehr kleinen Strukturen. FSI MERCURY Photoresist Asset bietet eine sehr breite Palette von Vorteilen, einschließlich sehr niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, praktisch Null Viskosität und eine sehr niedrige Vergasungsrate. Es bietet auch eine hohe Haltbarkeit und schnelle Einwirkzeiten. Darüber hinaus bietet es sehr hohe Haftung und Transparenz und verfügt über eine außergewöhnliche Fähigkeit, Rissen und Heben zu widerstehen. All diese Attribute machen das MERCURY Photolackmodell zur idealen Wahl für integrierte Schaltungshersteller. Abschließend bietet FSI MERCURY Photoresist eine Reihe komplementärer Qualitäten wie schnelle Trocknungszeiten, geringer Wärmeausdehnungskoeffizient, hervorragende bildgebende Definition und eine hohe Schicht-Schicht-Gleichmäßigkeit. All diese Vorteile machen das MERCURY Photoresist-System zu einer hochentwickelten Resisttechnologie und zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Herstellung integrierter Schaltungen.