Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9073573 zu verkaufen

FSI MERCURY ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine präzise Ätzung von mikro- und nanoskaligen Merkmalen auf Siliziumwafern ermöglicht, die in der Mikroelektronikindustrie häufig verwendet werden. Die Photoresisttechnologie beinhaltet die Belichtung eines lichtempfindlichen Films, der als Photoresist bezeichnet wird, mit einem präzisen lichtbasierten Muster, um präzise Muster oder Merkmale auf Halbleitersubstraten in photolithographischen Herstellungsverfahren zu erzeugen. MERCURY ist eine Ergänzung zur FSI-Produktlinie, die die Herstellung von fortschrittlicheren und komplizierteren Merkmalen als andere FSI-Produkte ermöglicht. Das System verwendet direkte Lasermuster, die eine Fokusgröße von weniger als 10 μ m aufweisen, um Muster mit einer Genauigkeit von bis zu 0,1 μ m zu erzeugen - was eine überlegene Auflösung beim Ätzen komplexer Mikro- und Nanomuster bietet. Das Gerät verfügt über eine einzigartige chemische Maschine, die im Vergleich zu anderen Photoresist-Produkten schnellere Ätzzeiten ermöglicht und die Zeit und Kosten für die Elektronenstrahlmusterung reduziert. Das chemische Werkzeug bedeutet in Verbindung mit überlegener Auflösung auch, dass schmale Linien ohne Kantenüberschuss hergestellt werden können, was bedeutet, dass der Musterprozess äußerst präzise ist, mit minimalen Defekten. FSI MERCURY Asset verfügt zudem über eine geringe Wasseraufnahme bei ausgezeichneter Haltbarkeit und einen breiten Belichtungsbereich. Das Modell funktioniert auch gut mit mehreren komplementären Prozessen, einschließlich Ozon- und Plasmabehandlung, die bei der Optimierung der Selektivität zwischen Resist und TKW (Thermo-Ketone Watersoluble) Schicht helfen können. Die Ausrüstung ist zudem sehr zuverlässig, mit einer Aufzeichnung von minimalen Ausfallzeiten, was bedeutet, dass Produktionsprozesse konsistent und effizient sind. Insgesamt ist MERCURY ein fortschrittliches Photolackprodukt, das das Ätzen von Mikro- und Nanomustern mit einer überlegenen Genauigkeit und Auflösung ermöglicht. Der Ätzprozess wird aufgrund der fortschrittlichen chemischen Einheit des Systems verkürzt, und das Produkt verfügt über hervorragende Speichereigenschaften und minimale Ausfallzeiten, wodurch es perfekt für den Einsatz in der Mikroelektronikindustrie geeignet ist.