Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9120351 zu verkaufen

FSI MERCURY ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die effiziente Lithographie hoch miniaturisierter Bauteilmerkmale entwickelt wurde. Das System basiert auf fortschrittlicher digitaler DUV-Lithographie-Technologie und besteht aus einer Excimer-Laserbeleuchtungseinheit, einer vollen optischen Bildgebungsmaschine, einem Spin Coater und einem Spin-Trockner. Das Excimer-Laserbeleuchtungswerkzeug erzeugt ein kurzwelliges Belichtungsmuster, mit dem genaue, konsistente Muster auf photoresistbeschichteten Substraten erzeugt werden. Dieses Asset kann Muster mit Submikron-Auflösung erzeugen, die für hochkomplexe 3D-Komponenten verwendet werden können. Das komplette optische Abbildungsgerät von MERCURY bietet eine gleichmäßige und präzise Beleuchtung des mit Photolack beschichteten Wafers mit mehr Leistung und Auflösung als herkömmliche Lichtbelichtungssysteme. Der integrierte Spin Coater und Spin Dryer sorgen für einheitliche Schleuder- und Trockenprozesse, die eine Produktion mit optimaler Filmdicke und präziser Oberflächenhomogenität ermöglichen. Diese Kombination von Hightech-Komponenten ermöglicht es FSI MERCURY, Muster mit einer höheren Anzahl von Mustertreue und einem höheren Leistungsniveau zu erstellen. Das Photoresistsystem von MERCURY ist in der Lage, hochpräzise Merkmale mit einer akzeptablen Fehlerrate auch auf dünnen Schichten zu erzeugen. Seine Konstruktion ermöglicht eine breite Palette von Materialien verwendet werden, aus einer Vielzahl von Materialien einschließlich Metalle, Polymere, Kunststoffe und Glas. Mit dem Gerät können vielfältige Lithographieanwendungen unterstützt werden, vom Kontakt über Löcher bis hin zu 3D-Mustern. Die Maschine ist einfach zu bedienen und bietet hervorragende Fehleranalysefunktionen. Die Submikron-Prozesssteuerung wird durch präzises Maskieren und automatisiertes Belichtungsscannen ermöglicht. Präzise Rückkopplungssteuerung mit automatischer Belichtung mehrerer Schichten und einer Vielzahl von Muster- und Optimierungsoptionen verbessern die Genauigkeit und Effizienz weiter. Hochempfindliche Photolacksysteme wie diese bieten hervorragende Auflösung, Gleichmäßigkeit und Fehlerreduzierung für anspruchsvollere Technologien wie Mobilfunkkameras, optische Komponenten und integrierte Schaltungen. Das Präzisionsfotoresistwerkzeug von FSI MERCURY ist eine hervorragende Lösung für die Lithographie von 3D-Komponenten mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit.