Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9120352 zu verkaufen

FSI MERCURY ist ein proprietäres Photolackgerät, das speziell für Makroelektronik und Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Es ist ein ultradünner Film aus Resistpolymer, der Energie freisetzen oder einfangen kann, die benötigt wird, um gewünschte Muster auf physikalische Substrate zu übertragen. Das System besteht aus einem Basisflüssigkeits-Photoresist-Material in Kombination mit Entwickler und Strahlung, das die Übertragung eines Bildes einer Schaltung oder eines Bauelements in der Schaltungsherstellung ermöglicht. Diese Photolackeinheit ist in verschiedenen Formeln erhältlich, die für den Einsatz auf den verschiedensten Substratmaterialien wie Aluminium, Kupfer, Glas, Silizium, Halbleitern, Galliumarsenid und Quarz geeignet sind. Wenn MERCURY ultravioletter (UV) Strahlung ausgesetzt ist, widersteht es Polymerzerstörungen und erzeugt ein Ätzbild. Das Material weist zudem einen hohen Seitenwiderstand auf, der ein Hinterschneiden oder Verzögern verhindert. FSI MERCURY verwendet mehrere Schichten von Spezialkomponenten, die ihm überlegene Leistung gegenüber anderen Photoresists verleihen. Die Maschine beginnt mit dem polymerisierten Resistmaterial, auch Folie genannt. Die Folie wird im Spin-Coating-Verfahren auf Substrate aufgebracht und zur Verbesserung der Folienqualität durch UV-Licht gehärtet. Zusätzlich wird mit zusätzlicher Strahlung das gewünschte Muster auf den vorbeschichteten Wafer aufgebracht. Nach Belichtung des Resists kann mit einem Inline-Ascher der unbelichtete Resistfilm durch einen Fluor-basierten Härtungsprozess, der eine dauerhafte Bindung bildet, zurückgewonnen werden. Dadurch kann es leicht photolithographisch geätzt werden. Was die Nachentwicklung betrifft, so ist es wesentlich, dass das belichtete Material sauber abgezogen wird, so dass ein hochauflösendes Bild zurückbleibt. MERCURY Photoresist-Tool enthält auch einen hochwertigen Entwickler, der hilft, die besten Lösungen für die Aufrechterhaltung von Auflösung und Qualität beim Heben von Kontaktmasken zu bieten. Dadurch wird sichergestellt, dass das darunterliegende Substrat durch den Ätzprozess nicht beschädigt wird. Zusammenfassend ist FSI MERCURY ein Dünnschicht-Resist-Asset, das mehrere Komponenten und Prozesse verwendet, um ein Bild auf ein Substrat zu übertragen. Mit seinen fortschrittlichen Technologien und zahlreichen Vorteilen wie Flexibilität, Wirtschaftlichkeit und überlegener Auflösung bietet MERCURY eine optimale Lösung für Makroelektronik und Halbleiteranwendungen.