Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9157619 zu verkaufen

FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury
ID: 9157619
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1993
Spray cleaning system, 8" 1993 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury ist eine Photoresist-Ausrüstung, die verwendet wird, um Leiterplatten und andere elektronische Komponenten zu erstellen. Das System nutzt zwei Prozesse, den Photolithographen und den Ätzprozess. Der Photolithograph ist der Prozess der Verwendung einer Schicht aus Photolack, um Schaltungskomponentenmuster auf die Oberfläche der Platte zu übertragen. Dabei wird der Photolack mit Licht belichtet und mit Hilfe einer Photomaske die gewünschten Muster erzeugt. In der Ätzstufe wird mit einem Ätzmittel das unerwünschte Komponentenmuster und das andere unerwünschte Material um den Photolack weggeätzt. Der Photolithograph von FSI Mercury wird von einer proprietären Lichtquelle namens TEL Mercury i7 angetrieben. Diese Lichtquelle bietet integrierte Lösungen für ein breites Spektrum an Bauteilkonstruktionen und -schritten, die sicherstellen, dass die während der Photolithographiestufe produzierten Bauteile von höchster Qualität sind. Die Ätzstufe von TOKYO ELECTRON Mercury ist auch so konzipiert, dass Benutzer Komponenten mit einer extrem hohen Präzision herstellen können. Die Ätzkammer verwendet eine einzigartige Gasfördereinheit, die das Ätzmittel gleichmäßig innerhalb der Kammer verteilt, den Ätzvorgang maximiert und zu Bauteilen mit hoher Genauigkeit führt. Darüber hinaus bietet die Mercury i7 Lichtquelle auch Temperaturregelungsmöglichkeiten für die Photolithographenstufe. Diese Funktion hilft, wärmebedingte Probleme mit Komponenten in dieser Phase zu vermeiden, so dass Benutzer genauere Ergebnisse erzielen können. Schließlich ist die Maschine auch aufgrund ihrer schnellen Lade- und Lasernavigationssysteme hocheffizient ausgelegt. Dies minimiert den Zeitaufwand für den Photolithographen- und Ätzprozess und bietet insgesamt eine Produktivitätsverbesserung. Insgesamt ist FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury ein zuverlässiges und effizientes Photoresist-Tool, das die Erstellung genauer elektronischer Komponenten schneller und einfacher macht als je zuvor.
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