Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9187823 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury ist eine Photoresist-Ausrüstung, die höchste Präzision und Zuverlässigkeit bietet. Dieses System kombiniert die neuesten Lithographie- und Bildgebungstechniken mit fortschrittlichem Design für optische Einheiten, damit Benutzer Submikronfunktionen auf verschiedenen Substraten mustern können. Es bietet überlegene Mustergenauigkeit, Reinheit und Wiederholbarkeit für die Bildung präziser V-Rillen und Gräben in einer Vielzahl von Materialien. Herzstück der Maschine ist eine FSI Mercury Bildlampe, die schmalbandiges ultraviolettes Licht emittiert. Eine Kombination von Filtern blendet dieses Licht dann in die für die Photolackentwicklung optimalen Wellenlängen ein. Das optimierte Lichtspektrum ermöglicht dem Resist eine schnelle Aushärtung unter Beibehaltung einer optimalen Intensität. Das Photoresist-Tool verwendet dann eine hochauflösende, lasergetastete binäre Optik mit einem Neun-Vergrößerungsfaktor, um Muster mit feinen Details zu belichten. Zusätzlich zu einer wiederholbaren Ausrichtungsgenauigkeit von ± 2 µm kann dieses Modell KE-Steigungsgrößen bis zu 0,5 µm erreichen. Die entworfene Ausrüstung wird auch mit einer Wafer-Platzierungsstufe und erweiterten Sicherheitsfunktionen geliefert. Die Bühne bietet einen Neigungswinkel von 45 ° für eine präzise Strukturierung von Kontaktmerkmalen und eine hervorragende Kontrolle von Resistprofilen. Zusätzlich wird zwischen der Lichtquelle und dem Substrat ein Antireflexfilm eingesetzt, um Streuungen zu reduzieren, eine zufriedenstellende Beleuchtung auch auf nicht idealen Oberflächen zu gewährleisten und eine Überhitzung der Bühne zu verhindern. Schließlich wird eine Sicherheitsverriegelung im System installiert, um sicherzustellen, dass die UV-Belichtung erst eingeleitet wird, wenn sich die Maschine in einem stabilen und sicheren Zustand befindet. TEL Mercury Photoresist Unit hat sich bei der Herstellung von Photoresist-Mustern mit höchster Präzision als äußerst zuverlässig erwiesen. Es kann verwendet werden, um ultra-kleine Merkmale auf einer Vielzahl von Substraten zu mustern, die genaue und wiederholbare Ergebnisse garantieren. Die Kombination aus fortschrittlicher Optik, Sicherheitsmerkmalen und kippbaren Stufen macht es auch zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Photoresist-Anwendungen.