Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9271575 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON MERCURY ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist ein fortschrittliches Lithographie-Tool, das verwendet wird, um hochauflösende Muster in großen Volumina auf Wafer zu erstellen und zu übertragen. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das in der Photolithographie als Belichtungsmedium verwendet wird, um Muster zu erzeugen. FSI Mercury System besteht aus einer Abtastvorrichtung zum Drucken, der Photolackbeschichtungs- und Belichtungseinheit, dem Reinigungs- und Backprozess und der Maschine zur Nachbearbeitung. Die Abtastvorrichtung verwendet einen Hochleistungslaser, um Nanometer-Skalenmuster auf der Oberfläche des Wafers zu erzeugen. Mit der Photolackbeschichtungsmaschine wird eine dünne Schicht aus Photolackmaterial auf den Wafer aufgebracht, bevor das Muster erzeugt wird. Während der Belichtung wird der Laserstrahl in einem bestimmten Muster auf den Wafer aufgebracht, um die gewünschte Form zu erzeugen. Der Reinigungs- und Backprozess wird dann verwendet, um die verarbeitete Schicht aus Photoresistmaterial zu härten und eventuelle Trümmer zu entfernen. Schließlich dient das Nachbearbeitungswerkzeug zur Weiterentwicklung des Musters. TEL Mercury Asset ist sehr zuverlässig und kann mit hohen Geschwindigkeiten betrieben werden. Es ist auch in der Lage, hochauflösende Bilder mit genauen Mustern und Wiederholbarkeit zu erzeugen. Dies macht es ideal für hohe Volumenprozesse und reduziert Abfall durch die Genauigkeit des Werkzeugs. Das Modell kann auch leicht repariert und automatisiert werden für mehr Effizienz. Darüber hinaus eignet sich das Gerät gut für fortschrittliche Photolithographieverfahren wie Doppelmusterung, Mehrfachbelichtung und maskenlose Lithographie. TOKYO ELECTRON Mercury System ist ein leistungsfähiges Werkzeug für komplizierte Photolithographie-Prozesse. Es bietet ein zuverlässiges Werkzeug für die hochauflösende Bildübertragung, was die Effizienz erhöht und den Abfall reduziert und gleichzeitig die für die Lithographie erforderliche Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Seine fortschrittlichen Eigenschaften können verwendet werden, um die Produktion zu erhöhen und Kosten zu senken, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für die Halbleiterherstellung ist.