Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Orion #9384177 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Orion ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung für die Lithographie, die Licht verwendet, um Muster auf einem Substrat zu erzeugen. Dieses System verwendet eine Lichtquelle wie einen Argonfluorid (ArF) Excimerlaser oder einen Diodenlaser, um Muster auf ein Substrat zu übertragen. Die Übertragung wird durch die Manipulation der Lichtintensität ermöglicht. Das Substrat besteht aus einem strahlungsempfindlichen Material namens Photoresist, das für bestimmte Lichtwellenlängen empfindlich ist. Diese Einheit ist in der Lage, Merkmale mit präziser Musterung und Genauigkeit durch die Steuerung der Lichtintensität zu schaffen. Die Maschine umfasst einen Wirtsrechner, ein Inert- oder Vakuumgehäuse, ein Photoresist-Beschichtungsmittel, eine Gasströmungseinheit und eine Belichtungsoptik. Der Hostcomputer führt eine programmierbare Logiksteuerung (SPS) aus, die der Überwachung der Komponenten des Tools dient. Es ist in der Lage, Muster und Rezeptskripte basierend auf den Eingaben des Benutzers auszuführen und ermöglicht es dem Benutzer, Parameter in Echtzeit anzupassen. Das inerte oder Vakuumgehäuse ermöglicht die Manipulation der Umgebung um das Substrat herum für eine genauere Belichtung des Photolacks. Das Photolack-Beschichtungsmittel ist für die Abscheidung des Photolacks auf das Substrat verantwortlich. Sie wird über eine Düse zugeführt, die die Photolacktröpfchen auf das Substrat liefert. Die Gasströmungseinheit ist für die Versorgung eines Inertgases, wie Stickstoff oder Argon, für den Betrieb der Anlage verantwortlich. Der Belichtungsoptikteil des Modells enthält die Lichtquelle und die Fokussieroptik zur Steuerung der Intensität des Lichts. Das Gerät ist in der Lage, Strukturen mit Abmessungen von bis zu 0,05 Mikrometer zu schaffen. Dieses System ist ideal für die Herstellung von mikroelektronischen oder Halbleiterbauelementen. Es wird auch für MEMS (microelectromechanical systems) Forschung und Entwicklung verwendet. Die Genauigkeit der Musterbildung wird durch Steuerung der Intensität der Lichtquelle erreicht. Der Benutzer kann auch die Nachbelichtungsbedingungen einstellen, um die Strukturierung des Photolacks weiter zu verbessern. FSI Orion ist eine fortschrittliche Einheit, die präzise Muster auf einem Substrat für verschiedene Arten von Lithographieanwendungen liefert.