Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Orion #9395754 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Orion ist eine Photoresist-Ausrüstung, die speziell für die Entwicklung und Belichtung dünner Polymerschichten für Photoresist-Anwendungen entwickelt wurde. Das System verfügt über hochauflösende Musterfunktionen und kann für eine Vielzahl von Prozessen verwendet werden, von Einzeldüsenscheiben bis hin zu Retikeln, Groß- und Mittelflächenmasken, Universalchips und Musterprozessen. FSI-Orion-Einheit verfügt über eine fortschrittliche Low-Angle-Film-Profilierung mit einer patentierten „Full Width Adjustment“ -Option zur Steuerung der Foliendicke. Dies ermöglicht eine hohe Kontrolle der Photolackentwicklung, so dass der Bediener die Richtung und Form des Musters genau steuern kann. TEL Orion Maschine ist auch in der Lage, mehrere Modus Belichtung, so dass der Benutzer zwischen einzelnen, doppelten oder sogar dreifachen Belichtungsmodi wählen. Dieses Merkmal ist vorteilhaft, wenn eine potentiell hohe Variabilität in der Größe eines bestimmten Photolackmerkmals besteht oder wenn die Bildung eines oder mehrerer bestimmter Photolackmerkmale bei einer einzigen Belichtung möglicherweise schwieriger zu erreichen ist. TOKYO ELECTRON Orion Werkzeug enthält auch eine zweidimensionale Z-Achsen-Scanning-Funktion, die es dem Benutzer ermöglicht, die Anzahl der Belichtungsschritte zu reduzieren und letztlich die Zeit zu verringern, die es braucht, um ein gewünschtes Muster zu erreichen. Darüber hinaus bietet das Asset verschiedene Prozesssteuerungsfunktionen wie Temperaturregelung, Geschwindigkeitsregelung, Fokusregelung und mehr. Orion-Modell ist auch in der Lage, Photolackmasken mit höherer Qualität und Auflösung als andere Systeme aufgrund der hohen Geschwindigkeit Spinner, Hochfrequenz-Digitalkamera und Hochfrequenz-Scan-Interpolation Fähigkeiten. Die Kombination dieser Funktionen ermöglicht es FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Orion, Fotolackmasken mit bis zu 1450 dpi Auflösung zu erzeugen. Die von der Anlage erzeugten hochauflösenden Bilder ermöglichen eine höhere Maskengenauigkeit und damit bessere begleitende lithographische Ergebnisse. Schließlich ist das FSI Orion Photoresist System vollautomatisiert und wird mit einer begleitenden Software zur Prozessparameterkalibrierung und statistischen Prozesssteuerung geliefert. Dadurch kann der Bediener Prozesseinstellungen einfach überwachen und anpassen, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Daher ist TEL Orion ein wesentliches Werkzeug für die Halbleiterherstellung µDRAM.