Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON PFA Turntable for Mercury #293640260 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PFA Turntable for Mercury ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für den Einsatz in einer Vielzahl von Materialbearbeitungsanwendungen entwickelt wurde. Dieses Photolacksystem ermöglicht die schnelle und wiederholbare Abscheidung von dünnen Filmen mit hoher Qualität und Wiederholbarkeit in einer Vielzahl von Materialien. FSI PFA Turntable for Mercury verwendet einen einzigartigen „Lift and Push“ -Mechanismus, um dünne Filme auf Substraten abzulegen, wodurch die Notwendigkeit einer komplexen manuellen Manipulation von Proben entfällt. Dieser Mechanismus ermöglicht es, den Photolack gleichmäßig und mit hoher Genauigkeit aufzubringen und gleichzeitig die Dicke des Photolacks zu steuern. Das Gerät nutzt eine dreikanalige Endstufe, die die einstellbare Schichtdicke und Abscheidungsenergie ermöglicht. Neben der Dünnschichtabscheidung ermöglicht die Maschine eine schnelle Chargenverarbeitung mehrerer Proben mit den gleichen Photoresist-Einstellungen. Dies erhöht den Wert des Werkzeugs und die Effizienz. TEL PFA Turntable für Mercury verfolgt auch seine Verarbeitungsbedingungen in Echtzeit und speichert Daten zur weiteren Analyse. PFA Turntable for Mercury ist mit einer Quecksilberlampe ausgestattet, die eine breite Palette von Wellenlängen für die Bestrahlung und eine fortschrittliche optische Komponente für den scharfen Fokus des Quecksilberstrahls bietet. Die Wahl der verwendeten Quecksilberlampe hängt von den zu verarbeitenden Materialien ab und ermöglicht die Abscheidung maßgeschneiderter dünner Filme von verbesserter Qualität und Wiederholbarkeit. TOKYO ELECTRON PFA Turntable for Mercury ist auch mit einem Vakuum-Modell ausgestattet, das restliche Spuren von Photoresist und anderen flüchtigen Materialien aus dem Substrat evakuiert, was zu einer sauberen, gleichmäßigen Abscheidung der gewünschten Materialien ohne Pinlochbildung führt. Abschließend ist FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PFA Turntable for Mercury eine zuverlässige Photoresist-Ausrüstung, die kurze Arbeit von der Aufgabe macht, dünne Filme abzuscheiden. Mit seinem intuitiven „Lift and Push“ -Mechanismus, seiner Datenüberwachung in Echtzeit und seiner Quecksilberlampe für Bestrahlungsoptionen bietet dieses Photoresist-System beispiellose Genauigkeit, Konsistenz und Wiederholbarkeit und ist somit eine ausgezeichnete Wahl für jede Materialbearbeitungsanwendung.