Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 3500 #9092708 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 3500 ist eine hochmoderne Photolackausrüstung, die Photolackschichten von ausgezeichneter Qualität herstellen kann. Das System verwendet eine proprietäre Blindbelichtungstechnologie, die eine genaue und wiederholbare Bildübertragung mit minimaler Defektivität über weite Bereiche ermöglicht. Es ist in der Lage, große Wafer von bis zu 300mm Durchmesser bei hohem Durchsatz zu verarbeiten. Die Photoresist-Einheit verfügt über eine hochgenaue Wafer-Handhabungsmaschine, die von einem fortschrittlichen Bewegungsregler gesteuert wird, und ist in der Lage, auch die empfindlichsten Substrate zu handhaben. Darüber hinaus weist das Werkzeug eine hochauflösende lineare Stufe zur präzisen Positionierung des Substrats relativ zur Belichtungsquelle und ein UV-blockierendes Gehäuse auf, das einen sicheren Betrieb während der Belichtung gewährleistet. FSI Polaris 3500 wurde entwickelt, um Photolackschichten von höchster Qualität herzustellen. Es ist mit einer automatisierten Rezeptverarbeitung (ARPS) ausgestattet, um Belichtungsparameter wie Energie, Dosis und Zeit zu steuern, und das Modell ist in der Lage, hochgleichmäßige Resistschichten auf vorhersagbare Weise zu erzeugen. TEL Polaris 3500 ist auch in der Lage, erstklassigen Durchsatz und Prozessstabilität zu erreichen. Es verfügt über eine fortschrittliche rückseitige Reinigungsausrüstung, die Waferdefekte verringern soll, sowie ein Rapid Run-System, das eine schnellere Verarbeitung von Resistschichten ermöglicht. Das Gerät ist außerdem mit einer kantenfreien Oberflächenvorbehandlungsmaschine ausgestattet, die eine Resistanreicherung an den Rändern des Substrats verhindert und die Musterqualität verbessert. TOKYO ELECTRON Polaris 3500 ist ein äußerst zuverlässiges und effizientes Photolackwerkzeug. Sein modulares Design ermöglicht eine einfache Wartung und die Anlage verwendet fortschrittliche Steuerungsalgorithmen für eine effiziente Energie- und Dosisbelastung, die höchste Prozesssicherheit gewährleisten. Insgesamt liefert dieses Photolackmodell hervorragende Prozessergebnisse und ist eine ausgezeichnete Wahl für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen.