Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON PVDF Turntable for Mercury MP #9364334 zu verkaufen

ID: 9364334
Wafergröße: 4"
4" 8-Position turntable.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PVDF Turntable for Mercury MP ist eine Photoresist-Ausrüstung, die entworfen wurde, um genaue und präzise Musterung für die Herstellung von Elektronik zu liefern. Dieses System basiert auf einer Turbomolekularpumpe, die eine stabile und effiziente Drehung des Drehtisches zur gleichmäßigen Abscheidung von Photolack ermöglicht. Um eine genaue Strukturierung des Photolacks zu gewährleisten, enthält FSI PVDF Turntable for Mercury MP eine Reihe fortschrittlicher Funktionen. Erstens sind die Komponenten der Einheit einschließlich der Montageplatte und des Resistbeschichtungskopfes so konzipiert und konstruiert, dass sie Vibrationen minimieren und die dynamische Stabilität maximieren. Dadurch wird ein glatter, gleichmäßiger Photolackfluss auf die Waferoberfläche mit minimalen strukturierten Fehlern und mangelnder Abdeckung gewährleistet. TEL PVDF Drehscheibe für Mercury MP enthält auch eine Präzisionsrotationsdichtungsmaschine, die eine wiederholbare und genaue Strukturierung von Photoresist ermöglicht. Dieses Dichtwerkzeug stellt ein Vakuumventil um den Wafer her, wodurch Verschmutzungen und Abdeckungen von Photolack minimiert werden. Unter Verwendung der rotierenden Komponenten ermöglicht dieses Gut auch die Einstellung des Spaltabstandes, um eine breite Palette von Substraten anzupassen, wodurch die manuelle Einstellung der Foliendicke entfällt. Darüber hinaus verfügt TOKYO ELECTRON PVDF Turntable for Mercury MP über ein erweitertes Softwarepaket, das eine einfache Benutzeroberfläche und umfassende Datenprotokollierung bietet. Diese Software unterstützt den Betrieb einer Reihe von Fotobildprozessen, einschließlich Belichtung, Härtung, Ausrichtung und Ätzen. Diese ausgeklügelte Software ermöglicht auch individuelle Prozessabläufe und ist sehr reaktionsschnell, mit Verarbeitungsgeschwindigkeiten von bis zu 12008w/Minute Photolack. PVDF Turntable for Mercury MP ist ein hochentwickeltes Photoresist-Modell, das speziell auf die industriellen Anforderungen der Elektronikhersteller zugeschnitten ist. Mit einer Kombination aus hoher Geschwindigkeit, präziser Strukturierung und stabilem Betrieb ist diese Ausrüstung ideal für alle Anwendungen, die Photolack benötigen, von grundlegenden Beschichtungsprozessen bis hin zur komplexen Schaltungsherstellung.
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