Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON PVDF Turntable for Mercury MP #9384393 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PVDF Turntable für Mercury MP ist ein spezialisiertes Gerät für die Photolackverarbeitung. Photoresist ist ein flüssiges Material, das bei Belichtung und Entwicklung zu verschiedenen Mustern geformt werden kann. Es ist weit verbreitet für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Displays und mikroelektronischen Komponenten. FSI PVDF Turntable für Mercury MP ist eine robuste Ausrüstung, die zuverlässige und konsistente Ergebnisse liefert. Es wird aus PVDF (Polyvinylidenfluorid) -Kunststoff hergestellt, der atomar gebunden ist und bei der Verarbeitung überlegene Wärmebeständigkeit und nicht benetzende Eigenschaften bietet. Der Drehtisch ist mit einer Reihe von Funktionen ausgestattet, darunter eine statisch ausbalancierte abnehmbare Spindel, die eine genaue Anwendung und Verarbeitung des Fotolacks ermöglicht, sowie integrierte Load and Unload Pins, die eine Reihe von Wafergrößen bis zu 8 Zoll unterstützen. Zusätzlich ist es mit einer kinematischen Sicherheitsklemme ausgestattet, die eine korrekte Positionierung des Wafers im Drehtisch gewährleistet. Das Photoresist-Applikationssystem bietet eine hervorragende konsistente Gleichmäßigkeit und wurde entwickelt, um eine genaue Vermischung von Materialien zu gewährleisten, was aufgrund seiner Pulse Break-Technik zu konsistenten, wiederholbaren Prozessen führt. TEL PVDF Turntable für Mercury MP enthält auch eine ausgeklügelte Mehrpunkt-Temperaturregelung, die ein empfindliches Thermomanagement ermöglicht. TOKYO ELECTRON PVDF Turntable für Mercury MP ist auch mit einer einzigartigen Load and Unload Pin Maschine ausgestattet, die leicht an die Größe oder Art des Wafers angepasst werden kann. Der integrierte Thermostat sorgt dafür, dass die Temperatur des Wafers für eine genaue Photoresist-Applikation und -Verarbeitung optimal gehalten wird. PVDF Turntable für Mercury MP ist eine ausgezeichnete Wahl für die Anwendung und Verarbeitung von Photoresist. Es bietet beispiellose Genauigkeit und Konsistenz, auch in extremen Umgebungen. Dadurch ist sie zu einem wesentlichen Bestandteil des Photolackherstellungsprozesses geworden.