Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON TITAN #9364338 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON TITAN ist eine Photoresist-Ausrüstung für fortschrittliche Lithographieanwendungen. Es verfügt über ein hochauflösendes, präzises optisches System mit einer langen Fokustiefe, das den Einsatz einer Vielzahl von Resists ermöglicht. Die Einheit besteht aus einer hochauflösenden optischen Druckabbaumaschine, einer Niederdruckabbildungskammer, einer Multi- oder Single-Mode-Belichtungsquelle und einem automatisierten Steuerwerkzeug. Diese Ressource wird für fortschrittliche Photolithographie-Prozesse wie Sub-Mikrometer-Bildübertragung und Schaltungsschneiden verwendet. Es hilft auch, die Kosten und die Zeit für den Belichtungsprozess zu reduzieren. Darüber hinaus bietet es verbesserte Präzision und Zuverlässigkeit, ausgezeichnete Wiederholbarkeit und verbesserte Inspektionsgenauigkeit. Das Modell kann für eine Vielzahl von Materialien verwendet werden, darunter Polymere, dielektrische Filme mit hohen k, III-V-Verbindungen und Metalle. Es bietet einen optimierten Resist-Prozess, um sowohl die Strukturierung als auch die Profilkontrolle zu erreichen. Dies bedeutet, dass die gleichen Parameter verwendet werden können, um Oberflächen verschiedener Materialien zu verarbeiten. Das Gerät bietet auch die Flexibilität, verschiedene bildgebende Techniken anzuwenden, die auf derselben Systemplattform basieren. Diese Techniken umfassen amplitudenmodulierte, phasenverschobene und kombinierte Lithographie. Darüber hinaus bietet das Gerät dank seiner hochauflösenden Optik eine verbesserte Fehlererkennungsgenauigkeit. Zu den Komponenten der Maschine gehören Quelle, Detektor und Optik. Die Optik besteht aus einer telezentrischen Linse, einem Hochleistungskondensator und einer Entmagnetisierungsoptik. Die Quelle enthält einen gepulsten Laser und der Detektor besteht aus Gaußfiltern und einem linearen Array von Detektorelementen. Das bildgebende Werkzeug ist so konzipiert, dass es ein gleichmäßiges positives Verzerrungsbild liefert und sowohl für positive als auch negative Resists verwendet werden kann. Insgesamt ist FSI TITAN ein einfach zu bedienendes, zuverlässiges Photoresist-Asset. Die lange Fokustiefe und die hochauflösende Optik machen es ideal für fortschrittliche Lithographieanwendungen. Es bietet verbesserte Präzision und Zuverlässigkeit, ausgezeichnete Wiederholbarkeit und verbesserte Prüfgenauigkeit. Darüber hinaus ermöglicht seine Multimodus- und Single-Mode-Belichtungsquelle die Anwendung einer Vielzahl von Resist-Prozessen, um eine Strukturierung und Profilkontrolle zu erreichen.