Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Transfer Chamber #293665124 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Transfer Chamber ist eine Photoresist-Ausrüstung, die zur Erstellung fortschrittlicher mikroelektronischer Geräte verwendet wird. Das System verwendet Photolithographie, um Muster auf einem Silizium-Wafer-Substrat zu ätzen, um Merkmale komplexer elektronischer oder Mikrochip-Geräte zu schaffen. Diese Einheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer Photolackapplikationsstation, einem Maskenausrichter und einer Backmaschine. Die Photoresist-Applikationsstation appliziert Photoresist, ein lichtempfindliches Material, mittels Spin-Coating auf das Wafersubstrat. Bei diesem Verfahren wird der Wafer auf einem Futter gedreht und mit einer flüssigen Photoresist-Lösungsmittel-Lösung beschichtet. Nach Aufbringen der Lösung wird der Wafer ultraviolettem (UV) Licht ausgesetzt. Das UV-Licht aktiviert photolithographische Muster auf dem Wafer, die mit einer Maske oder Schablone bezeichnet sind. Die nächste Komponente, der Maskenausrichter, wird verwendet, um den Wafer mit der Maske genau zu registrieren. Dadurch wird sichergestellt, dass die Muster auf der Maske perfekt zu den Mustern auf dem Wafer passen. Die Registrierung erfolgt über ein Laserinterferometer, das den Abstand zwischen Wafer und Maske misst. Die letzte Komponente ist das Backwerkzeug. Nach dem Ausrichten wird der Wafer in einen Ofen gelegt, um ihn aufzuheizen. Dieses Härtungsverfahren vernetzt den Photolack in eine dauerhafte, länger anhaltende Form, die nachfolgenden Ätzprozessen standhält. Sobald der Härtungsprozess abgeschlossen ist, kann der Ätzprozess beginnen. Mit dieser Ätzung werden unerwünschte Siliziumschichten entfernt und Muster zur Bildung der gewünschten Gerätekomponenten erzeugt. FSI Transfer Chamber ist eine fortschrittliche Photolithographie-Anlage, die zur Erstellung komplexer mikroelektronischer Geräte verwendet wird. Es besteht aus Komponenten wie einer Photolack-Applikationsstation, einem Maskenausrichter und einem Backmodell, von denen jedes zusammenarbeitet, um Muster auf das Substrat zu ätzen. Zusammen bieten diese Werkzeuge die notwendige Präzision und Genauigkeit, die für die Entwicklung und Produktion fortschrittlicher elektronischer Geräte erforderlich ist.