Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 200 #293640583 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 200 ist eine spezialisierte Photoresist-Ausrüstung für fortgeschrittene photolithographische Musteranwendungen. Es vereinfacht den Prozess der photolithographischen Strukturierung, bei der ein lichtempfindliches Material verwendet wird, um Muster auf einem Substrat zu erzeugen. Das System ist in der Lage, hohe Genauigkeit und Auflösung, bis zu 4 μ m. Die Einheit hat einen weiten Bereich der Belichtungswellenlängenabdeckung von 350 nm bis 450 nm und kann auch unter UV-FEL- oder HeNe-Laserbestrahlungsquellen arbeiten. Es verfügt über mehrere Maskengrößen und eine Auswahl an Materialien, wie Quarz- oder Quarzmasken. Die Maschine enthält einen fortschrittlichen Pre-Aligner mit einem hocheffizienten, hochauflösenden Auto-Erkennungs-Tool, das eine Auto-Korrektur-Funktion enthält. Dieses Asset erkennt automatisch den Standort des Substrats und des Musters, richtet dann das Substrat genau aus, um Fehler durch Maskenverschiebung oder Fokuswechsel zu minimieren. FSI Zeta 200 verfügt über eine erweiterte Bildgebung und Fokussteuerung mit einer integrierten WSFA-Funktion (Model-wide Focus Adjustment), die eine schnelle und genaue lithographische Musterung ermöglicht. Das Fotolackmaterial wird aus Kassetten in TEL Zeta 200 geladen und der Nutzungsstatus wird von einer Ausrüstung aus Online- und Offline-Steuerelementen verfolgt. Eine Schnellladefunktion ermöglicht es dem Benutzer, die Effizienz dunkler Räume zu optimieren. Für die hochauflösende Photolithographie verfügt das System über eine erweiterte SE (Sub-Resolution Acceleration) -Funktion und eine JPEG-2000 Datenkomprimierungsfunktion. SE ermöglicht eine schnelle Strukturierung auf dem Substrat mit geringer Linienbreite und höherem Durchsatz, und die JPEG-2000 Datenkomprimierung unterstützt große Musterdaten mit gleichmäßiger hoher Qualität. Zeta 200 wurde entwickelt, um eine effiziente, genaue und hochauflösende Strukturierung mit einem hochproduktiven Workflow zu ermöglichen. Mit ihrem robusten Gerätedesign, der fortschrittlichen Bild- und Fokussteuerung und der benutzerfreundlichen Bedienung ist die Maschine ideal für photoresistbasierte Lithographieanwendungen.