Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 200 #9031466 zu verkaufen
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ID: 9031466
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
Spray cleaning system, 8"
Robot options are available
2002 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 200 Photoresist Equipment ist ein anspruchsvolles Lithographie- und Dünnschichtabscheidungssystem, das bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es ist für hochpräzise Musterverfahren auf einer Vielzahl von Substraten von Quarzscheiben bis hin zu Nanostrukturen und anderen komplexen Strukturen konzipiert. Zu seinen Möglichkeiten gehört die Strukturierung über mehrere Dimensionen hinweg mit präziser Waferausrichtung und überlegener optischer Leistung. Kern der FSI Zeta 200 Einheit ist ein hochauflösender Rasterelektronenstrahl (SEB) mit bis zu 3D Fähigkeiten. Der SEB ist in der Lage, anspruchsvolle Muster mit hoher Präzision und Genauigkeit physikalisch auf ein Substrat zu übertragen. Die Funktionen des SEB umfassen eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) zur Steuerung von Strahlfleckgröße, Strahlstrom und Belichtungsdosis. Darüber hinaus bietet das SEB ein präzises und schnelles Scannen von chemischen Zusammensetzungen und Geometrien, um komplizierte Muster zu erzeugen. Die Maschine verfügt zudem über eine automatisierte Waferausrichtung, die eine präzise Ausrichtung des Strahlprofils auf das Zielsubstrat ermöglicht. TEL Zeta 200 verwendet auch mehrere Arten von Photoresists für kritische Bereiche des Musterprozesses. Es arbeitet mit positiven, negativen und zweifarbigen Photoresists und kann lichtempfindliche Materialien auf einer Vielzahl von Wafermaterialien wie Quarz, Silizium und Galliumarsenid abscheiden. Es verfügt über eine bewährte Fähigkeit, lithographische Masken mit einer Auflösung von 1,0 μ m oder kleiner zu mustern. TOKYO ELECTRON Zeta 200 ist vielseitig einsetzbar und kann einfach für spezifische Anwendungen angepasst werden. Es bietet eine einfache und schnelle Chargenverarbeitung für einheitliche Folien, zusammen mit Ofenbackladeregeln und einer feuchtigkeitsarmen Umgebung für kritische Prozesse. Darüber hinaus ist Zeta 200 mit einem branchenführenden Ionenstrahl-Ätzwerkzeug ausgestattet, das eine Auflösung von 1,5 μ m aufnehmen kann. Die Ionenstrahl-Ätzanlage sorgt für überlegene Ätzqualität und Gleichmäßigkeit bei maximaler Ausbeute. FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 200 Modell bietet auch extreme Genauigkeit und Kontrolle mit verbesserter Fehlerabstoßung und verbesserte Prozeßwiederholbarkeit. Seine strahlungsdämpfenden Komponenten bieten maximalen Schutz vor Röntgenbelichtung und bieten ein sicheres, gesundes Arbeitsumfeld. Diese Ausrüstung eignet sich gut für Anwendungen, die eine hohe Genauigkeit und Zuverlässigkeit erfordern. Es wurde bei der Herstellung von MEMS-Bauelementen, Nanodevices, OLED-Anzeigen und anderen Halbleiterbauelementen verwendet.
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