Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #293600179 zu verkaufen
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ID: 293600179
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Spray cleaning system, 12"
2010 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 ist eine Hochleistungs-Photolackausrüstung für die Herstellung elektronischer Geräte. Es vereint fortschrittliche Hardware- und Softwarelösungen, um höchste Genauigkeit und Durchsatz für moderne Halbleiterherstellung zu liefern. Das System ist in der Lage, die höchste Genauigkeit lithographische Bildgebung, sowie Reinigung, Backen und Verarbeitung von Photoresist-Materialien. Die Beleuchtungsquelle ist ein LED-Array mit dreifacher Wellenlänge. Die LEDs sind unabhängig einstellbar, um drei verschiedene Tiefen des Feldes zur Verfügung zu stellen, was einen ausgezeichneten Fokus und eine maximale Auflösung ermöglicht. Der automatisierte Substrattisch ermöglicht die höchste Genauigkeit der Lieferung des Photolackmaterials, ohne die Brennposition manuell einstellen zu müssen. Dies führt zu einer optimalen Prozessgenauigkeit und Wiederholbarkeit. Die Photoresist-Bearbeitungskammer ist mit einer Reihe von beheizten Platten ausgestattet, die „warme“ und „heiße“ Backvorgänge sowie eine Vorätzverarbeitung ermöglichen. Die Kammer verfügt außerdem über eine Vakuumeinheit, die eine optimale Steuerung des Feuchtigkeitsgehalts und anderer Merkmale wie thermische Diffusion ermöglicht. Die Kammer wird ferner von einer spezialisierten Umlaufkühlmaschine unterstützt, die höchste Präzision und thermische Regulierung gewährleistet. Der hochpräzise Schrittmotor und das Stufenausrichtwerkzeug sowie das automatisierte Wafergetriebe minimieren Fehlstellungen und das Gesamtrisiko der Fehlerbildung von „Through Silicon Via“ (TSV). Dies gewährleistet effiziente Fertigungen bei minimalem Benutzereingriff. Darüber hinaus bietet die umfassende Software-Suite des Asset umfassende Anpassungsfähigkeit und Konfigurierbarkeit. Das Modell unterstützt eine breite Palette von Photolacksystemen, mit Einstellungen, die für jedes spezifische Rezept optimiert werden können. Dies ermöglicht auch die einfache Einrichtung komplexer Rezepte für stoßarme Prozesse, wie zum Beispiel selbstjustierte Doppelmusterung. Zusammenfassend ist die FSI Zeta 300 G3 Photolackausrüstung ein hochentwickeltes System, das für die Herstellung hochgenauer Halbleiter entwickelt wurde. Die erweiterten Beleuchtungs-, Heiz- und Kühlfunktionen in Kombination mit einer umfassenden Software-Suite ermöglichen es, konsistente und wiederholbare Produktionsergebnisse zu erzielen.
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