Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #293600193 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 Photoresist-Ausrüstung ist ein fortschrittliches Photolithographie-Werkzeug, das bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und anderen elektronischen Produkten verwendet wird. Das System besteht aus einem Arbeitstisch, einer Photomasken-Retikelstufe, einem Lithographiekopf, einem Photoresist-Sprühgerät und einem Controller. Der Arbeitstisch bietet eine stabile Plattform für die anderen Komponenten und wird für die Abstandshaltermontage, Waferplatzierung und Entladevorgänge verwendet. Der Lithographiekopf ist eine biaxiale, vierachsige motorisierte Stufe, die eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit über einen weiten Bereich von Beschleunigungs- und Fahrgeschwindigkeiten bietet. Die Photomasken-Retikelstufe ist eine präzise XY-Scanning-Stufe und verwendet hochauflösende, hochgenaue Sensoren, um ein genaues Positionierungs-Feedback zu liefern. Der Photolacksprüher dient zur gleichmäßigen Beschichtung der Waferoberfläche. Die Steuerung sorgt für den Betrieb der Einheit, führt Berechnungen durch, um die notwendigen Kamerabelichtungseinstellungen aufrechtzuerhalten, die Bewegung des Lithographiekopfes und der Retikelstufe zu steuern und mit der externen Antriebskraft zu interagieren. FSI Zeta 300 G3 Photoresist Maschine ist für hochauflösende und Hochdurchsatzproduktion von Wafern konzipiert. Es ist in der Lage, Substrate bis zu einem Durchmesser von 150 mm mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 2,5 µm zu verarbeiten. Das Tool verwendet fortschrittliche Technologien wie erweiterte Entfernungsmessung (ADM), Photoresist-Ablaufsteuerung mit geschlossener Schleife und Fernbedienungsfunktionen mit geringer Drift. Es beinhaltet auch eine patentierte, automatisierte Optikwartung, die dafür sorgt, dass die Optik sicher und funktionsfähig ist. TEL Zeta 300 G3 Photoresist-Modell bietet hohe Leistung, Genauigkeit und Integration mehrerer Systeme, was zu erhöhter Ausbeute und verringerter Zykluszeit im Herstellungsprozess führt. Es ist auch mit einer breiten Palette von Chemikalien, Photomasken und Elektronenstrahlgeräten kompatibel.