Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #9181244 zu verkaufen

ID: 9181244
Wafergröße: 12"
Spray cleaning systems, 12" Canister consoles: (6) Canisters, PTFE neck, No DVs (2) 4-Position PVC-C consoles Burst element caps H2S04 Aspirator kit, 1/4" (6) MYKROLIS Filters, QCDZ30P3F (2) Chemical samplings / Shutoff boxes MYKROLIS Filter WDFVATX2F (2) CC Drip-trays (5) 3/8" and (1) 1/2" CC Tubing, 10m MHM: STABULI TX90cr Cassette handler Powder coated facade assembly (4) PFA/Ti Wafer carriers, 12", 25-slots (4) ASYST Load ports 0.07 Micron PTFE ULPA filters BROOKS Wafer handler and controller Fluid delivery module (PVC-C): (5) 30-300cc Flow meters and operators 500-900cc Flow meter and operator TREBOR 480V, 60kW Quartz DI heater Process module: HALAR cabinet 5-Port side bowl spray posts (3) PTFE Drain valves (3) PFA P-Traps 2-Position 12" PFA turntable 6-Valve chemical mixing block Turntable hoist assy Hot and cold rotary union (2) Processes and cabinet exhaust damper IR Heater with bypass ViPR Hardware included Operation and maintenance manuals Digital versions 2008-2009 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 ist eine Photoresist-Ausrüstung für präzise und wiederholbare Lithographie für Anwendungen, die feinste Details in der mikroelektronischen, biomedizinischen und optischen Herstellung erfordern. Dieses System ist mit fortschrittlichen Lithographiefunktionen wie Stepper, Scan- und Flip-Chip-Ausrichtungsfunktionen ausgestattet und verwendet die neueste Elektrolyttechnologie. FSI Zeta 300 G3 ist eine fortschrittliche i-line Einheit, die es dem Anwender ermöglicht, verschiedene Musterlayouts mit reduzierter Prozesszeit und hervorragenden Ergebnissen zu fertigen. TEL Zeta 300 G3 Photoresist Maschine kombiniert High-Speed-Bildgebung verarbeitet und einzigartige fortschrittliche Lithographie-Technologien, um hochauflösende Bilder ohne Verzerrung zu liefern. Es bietet einen optimalen Bildgebungsprozess und hochauflösende Musterfunktionen, die kleine Strukturen wie Sub-100nm Linien und Räume erzeugen können. Es verfügt auch über Schritt-, Scan- und Flip-Chip-Ausrichtungsfunktionen zur präzisen Platzierung von Mustern auf Produktionssubstraten. TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 verwendet eine Elektrolytlösung, um Kontaminationen aus dem Resistfilm zu entfernen, und bringt dann die Resistlösung auf die Substratoberfläche auf. Dadurch wird die höchste Verzerrungssteuerung gewährleistet und die Notwendigkeit mehrerer Durchgänge entfällt. Außerdem wird ein Bindemittel auf die Substratoberfläche aufgebracht, um die Lithographieergebnisse zu verbessern und die Prozesszeiten zu reduzieren. Das Werkzeug ist auch mit einer variablen Fokuslinse ausgestattet, die den Fokus anpassen kann, um die Auflösung und den Kontrast von Bildern zu verbessern. Darüber hinaus ist Zeta 300 G3 mit einem Quelltuning-Abschnitt ausgestattet, mit dem der Benutzer die Intensität und Auflösung der Belichtungsquelle einstellen kann. Diese Funktion ermöglicht dem Anwender die Feinabstimmung der Belichtungsdosis ohne Änderung der Resistverarbeitungsbedingungen. Darüber hinaus kann FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 so konfiguriert werden, dass es automatisch auf die spezifischen Eigenschaften eines Benutzers kalibriert werden kann. Insgesamt ist FSI Zeta 300 G3 ein Photoresist-Asset, das viele erweiterte Funktionen hat, einschließlich Stepper, Scannen und Flip-Chip-Ausrichtungsfunktionen. Es hat auch eine einzigartige Elektrolyt-Lösung, um die höchste Ebene der Verzerrung Kontrolle zu gewährleisten, sowie eine variable Fokus-Linse und Quelle Tuning-Abschnitt für maximale Präzision der Bilder. Als Ergebnis ist TEL Zeta 300 G3 das perfekte Werkzeug für jede mikroelektronische, biomedizinische oder optische Fertigung mit der Notwendigkeit einer genauen Strukturierung.
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