Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta G2 #9204590 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta G2 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die mit fortschrittlicher proprietärer Technologie entwickelt wurde, um Ätz- und Lithographiefähigkeit für Prozesse wie MEMS, die Halbleiterindustrie, bereitzustellen. FSI Zeta G2 bietet überlegene Kantenschärfe und hohe Auflösung, um Herstellern zu helfen, erstklassige Produkte zu produzieren. Es integriert zwei grundlegende Technologien für atomare Schichtabscheidung und Prozesssteuerung, um ein fortschrittliches Photolacksystem zu schaffen. TEL Zeta G2 ist ein Atmosphärendruck-Ätzer, der mit den neuesten Plasmaquellentechnologien für präzises und gleichmäßiges Ätzen konfiguriert ist. Es wurde entwickelt, um Filme genauer und zuverlässiger zu ätzen und gleichzeitig ein hohes Seitenverhältnis bei gleichmäßiger Ätzrate zu erzielen. Das Gerät verfügt außerdem über eine verbesserte Vakuumkammer-PID-Steuerung, die das Ätzen unter verschiedenen Prozessbedingungen verbessert. Zeta G2 verfügt auch über einen systembasierten Ansatz zur Lithographie, der hohe Seitenverhältnisätzungen, präzise Waferausrichtung und Overlay-Genauigkeit kombiniert. Es ist mit einer Lithographie mit hohem Durchsatz konfiguriert, um eine gleichmäßige und wiederholbare Musterleistung während des Ätzprozesses zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt es über eine fortschrittliche automatisierte optische Messtechnik, die eine präzisere Messung der Prozessergebnisse ermöglicht. TOKYO ELECTRON Zeta G2 kommt auch mit einem vollautomatischen Cluster-Tool, das hilft, Kosten zu senken, indem die Anzahl der manuellen Anpassungen während des Prozesses benötigt. Dieses automatisierte Cluster-Tool ermöglicht eine schnellere Prozesszeit mit weniger Ausfällen durch ungenaue Ätzung oder Lithographie. Das Cluster-Tool hilft auch dabei, Prozessrezepte zu standardisieren, sodass Benutzer mehrere Prozesse in einem einzigen Lauf einrichten können. Insgesamt ist FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta G2 eine fortschrittliche Photolackmaschine, die hervorragende Ätz- und Lithographiefähigkeiten für Prozesse wie die MEMS-Herstellung bietet. Es ist mit proprietären Technologien für Ätz- und Lithographie, einem fortschrittlichen automatisierten Cluster-Tool, einem verbesserten Vakuumkammer-PID-Controller und einer automatisierten optischen Messtechnik entwickelt, um genauere Ergebnisse zu gewährleisten. Mit FSI Zeta G2 können Hersteller qualitativ hochwertige Produkte zeit- und kosteneffizienter erzielen.