Gebraucht FU SHENG FR100APII #9247060 zu verkaufen

FU SHENG FR100APII ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die holographische Technologie für Laser-Schreiben und -Aufzeichnung verwendet. Dieses System bietet eine präzise Submikronauflösung für die Bildgebung, Ausrichtung und Verkündung organischer Schichten und ist in der Lage, Muster mit überlegenen Linienbreiten und Seitenverhältnissen zu erzeugen. Die Einheit besteht aus zwei Teilsystemen, dem Fluorescence Layer Writing/Charging Subsystem (FLW/CS) und dem Laser Exposure Subsystem (LES). Das FLW/CS verwendet Laserstrahlen, um organische Schichten aufzuladen, die in Photoresist-Prozessen verwendet werden. Es verwendet eine speziell entwickelte digitale Scanmaschine und Schwankungsenergiedetektoren, um den gesamten Ladeprozess genau zu steuern. Das LES verwendet drei Arten von interferenzgefilterten Lasern - UV, HeNe und KrF -, um Photoresist mit optischer Strahlung zu belichten, die es ermöglicht, bei Belichtung zu härten. Die Laser sind so konzipiert, dass sie niedrige Impulsraten und eine sehr kleine Punktgröße erzeugen. Das FR100APT-Tool verfügt außerdem über einen automatisierten Wafer oder Substrat-Lade- und Transfer-Asset und einen Auto-Indexed Multiple-Field Stepper (AIMFS) zum Erstellen mehrerer Musterfelder. Dies ist äußerst nützlich für Chipkonstruktionen, die eine große Anzahl von Stufen und eine hohe Präzision erfordern. Die optische Ausrüstung des Modells ist mit Hochleistungszielen ausgestattet, um die Genauigkeit des Schreib- und Mustererzeugungsprozesses zu erhöhen. Darüber hinaus verfügt das System über eine digitale Bildverarbeitungseinheit, mit der Benutzer den Fotolack überwachen und die Belichtungsparameter gegebenenfalls anpassen können. Die FR100APT können bis zu 30 Programme speichern, die in der Regel mit einem bestimmten Photolackprozess zusammenhängen, der wiederholt werden muss. Dies spart Zeit und Energie, da Benutzer die relevanten Parameter nur einmal eingeben müssen, anstatt sie jedes Mal neu einzugeben, wenn der Prozess wiederholt werden muss. So werden komplexe Photolackprozesse schneller und präziser als je zuvor verwaltet. Insgesamt verwendet FR100APII Photoresist-Maschine modernste Technologie, um Präzisions-Submikronmuster und Bilder mit überlegenen Linienbreiten und Seitenverhältnissen zu erzeugen. Es ist ein unschätzbares Werkzeug in der Photoresist-Industrie, mit dem Benutzer mehrere, komplexe Muster mit Geschwindigkeit und Genauigkeit erstellen können.