Gebraucht GELON GN-135 #9245962 zu verkaufen

GELON GN-135 ist ein Photoresist-System, das die Herstellung fortschrittlicher elektronischer Geräte mit hoher Auflösung ermöglicht. Photolacksysteme sind ein wichtiger Bestandteil der Herstellung von Halbleiterbauelementen und GN-135 wurde entwickelt, um höchste Leistungsstandards zu bieten. GELON GN-135 besteht aus zwei Komponenten: einem photoaktiven Substrat und einer Polymerbeschichtung. Das Substrat besteht üblicherweise aus Glas, Keramik oder Metall und wird mit einem lichtempfindlichen Material behandelt. Dieses Material reagiert auf Licht und verursacht eine chemische Veränderung, die es ätzfest macht. Die Polymerbeschichtung dient dann zum Schutz des Substrats und zur Verhinderung des Ätzens. Bei Belichtung des Substrats wirken die Photonen mit dem photoaktiven Substrat zusammen und führen zu einer Farbänderung. Abhängig von der genauen Wellenlänge des verwendeten Lichts kann dies zur Bildung einer abgeschiedenen Metallschicht führen. Mit dieser Schicht können dann die verschiedenen Komponenten des elektronischen Gerätes definiert werden. Die Verwendung von GN-135 vereinfacht den Prozess der Herstellung anspruchsvoller elektronischer Geräte erheblich. Im Vergleich zu anderen Photolacksystemen bietet die Polymerbeschichtung eine überlegene Ätzfestigkeit und verhindert Verschmutzungen. Zusätzlich ist das photoaktive Substrat für einen weiten Wellenlängenbereich optimiert, wodurch Monoschichten mit ausgezeichneter Stufendeckung gebildet werden können. GELON GN-135 wurde eingesetzt, um fortschrittliche Transistoren, integrierte Schaltungen und Optoelektronik mit großem Erfolg herzustellen. Das System bietet ausgezeichneten Schutz vor Umweltelementen, und seine Flexibilität macht es einfach, eine Reihe von Anwendungen zu implementieren. GN-135 ist eine ideale Wahl für Hersteller, die ein Hochleistungs-Photolacksystem suchen.